1.一种具有高磁性能的YDMO薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤，步骤1，按照化学计量比，将硝酸钇、硝酸镝和乙酸锰溶于乙二醇甲醚中，搅拌均匀后加入醋酸酐继续搅拌至均匀，得到前驱液；

步骤2，将前驱液在Si基片上旋涂得到湿膜，湿膜经匀胶后在170～190℃下烘烤得到干膜，再于400～500℃下退火，得到晶态Y1‑xDyxMnO3薄膜；

步骤3，将晶态Y1‑xDyxMnO3薄膜冷却至室温，重复步骤2，直至得到预设厚度的晶态Y1‑xDyxMnO3薄膜；

步骤4，步骤3得到的晶态Y1‑xDyxMnO3薄膜在700～900℃退火，得到Y1‑xDyxMnO3薄膜；

步骤1中，加入醋酸酐搅拌均匀后静置24h得到所需的前驱液；

步骤2中，匀胶转速为2700～3000r/min，匀胶时间为15～20s；

步骤2中，湿膜的烘烤时间为4～6min；

步骤2中，退火时间为10～15min；

步骤4中，退火时间为80～90min。

2.根据权利要求1所述的具有高磁性能的YDMO薄膜的制备方法，其特征在于，步骤1中，乙二醇甲醚和醋酸酐的体积比为(2.5～3):1。

3.采用权利要求1所述的制备方法制备得到的具有高磁性能的YDMO薄膜，其特征在于，化学式为Y1‑xDyxMnO3，其中，x＝0.1≤y≤0.5，六方结构，空间群为P63cm。

4.根据权利要求3所述的具有高磁性能的YDMO薄膜，其特征在于，在‑8kOe～8kOe的外3

加磁场下，Y0.5Dy0.5MnO3薄膜的饱和磁化强度为2.581emu/cm。