1.一种精密的半导体光刻设备，其特征在于，包括：

光刻机构（1）；

防护机构（2），所述防护机构（2）与光刻机构（1）固定连接，所述防护机构（2）包括动力盒（21），所述动力盒（21）内壁的底部固定连接有电机（22），所述电机（22）的输出端固定连接有蜗杆组件（23），所述蜗杆组件（23）的顶部转轴活动连接有挡板（24），所述挡板（24）的外侧与动力盒（21）的内壁固定连接，所述动力盒（21）内壁的背面通过转杆活动连接有收缩轮（25），所述收缩轮（25）的正面固定连接有蜗轮组件（26），所述蜗轮组件（26）与蜗杆组件（23）啮合，所述收缩轮（25）的表面传动连接有传动带（27），所述动力盒（21）内壁的背面通过转杆活动连接有转向轮（28），所述转向轮（28）的表面与传动带（27）传动连接，所述动力盒（21）内壁的左侧固定连接有滑杆（29），所述滑杆（29）的另一侧与动力盒（21）的内壁固定连接，所述滑杆（29）的表面滑动连接有传动杆（210），所述传动杆（210）的顶部延伸至动力盒（21）的外侧，所述传动杆（210）的背面通过滑块滑动连接有限位滑轨（211），所述限位滑轨（211）的背面与动力盒（21）的内壁固定连接，所述传动杆（210）的底部固定连接有拉块组件（212），所述拉块组件（212）的底部与传动带（27）远离收缩轮（25）的一侧传动连接，所述传动杆（210）的背面固定连接有遮罩盖（213），所述滑杆（29）的表面套接有归位弹簧（214），所述归位弹簧（214）的内侧与传动杆（210）的外侧固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种精密的半导体光刻设备，其特征在于：所述光刻机构（1）包括底座（11），所述底座（11）的正面与动力盒（21）的背面固定连接，所述底座（11）的两侧均固定连接有壳体（12），所述壳体（12）的内侧活动连接有光刻组件（13），所述底座（11）的顶部固定连接有光刻平台（14）。

3.根据权利要求2所述的一种精密的半导体光刻设备，其特征在于：所述动力盒（21）的两侧均固定连接有加固板（3），所述加固板（3）的背面与底座（11）的正面固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种精密的半导体光刻设备，其特征在于：所述电机（22）的两侧均固定连接有限位板（4），所述限位板（4）的底部与动力盒（21）的内壁固定连接。

5.根据权利要求1所述的一种精密的半导体光刻设备，其特征在于：所述滑杆（29）的表面套接有支撑板（5），所述支撑板（5）的背面与动力盒（21）的内壁固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种精密的半导体光刻设备，其特征在于：所述限位滑轨（211）的顶部与底部均固定连接有连接板（6），所述连接板（6）的背面与动力盒（21）的内壁固定连接。