1.一种耐磨、自清洁减反膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、疏水性SiO2纳米颗粒的合成：以正硅酸四乙酯作为硅源、无水乙醇作为溶剂、氨水作为催化剂、六甲基二氮杂烷作为疏水改性剂，通过水解聚合反应制备SiO2纳米颗粒，然后加入六甲基二氮杂烷疏水改性剂，并搅拌3‑6小时，然后在室温下陈化7‑14天，最后，离心分离得到疏水性SiO2纳米颗粒；

S2、配制溶胶：将步骤S1获得的疏水性SiO2纳米颗粒分散在异丙醇和甲基异丁基酮混合溶剂中，搅拌均匀之后加入三丙烯酸季戊四醇和羟基环己基苯基酮，并搅拌均匀，得到复合溶胶；

S3、涂布：将步骤S2中获得的复合溶胶涂布在玻璃基底上，根据浸渍提拉镀膜仪的提拉速度控制涂层的厚度，涂布结束之后，将玻璃样品放在烘箱中烘干，最后，将样品置于N2吹2

扫室中，使O2浓度低于100 ppm，用400 mJ/cm紫外线固化涂层，涂层在紫外光固化下，会转变成有机聚合物；

所述步骤S1中的正硅酸四乙酯、氨水、无水乙醇、六甲基二氮杂烷的添加量，分别为：5~

15质量份、1 5质量份、60 100质量份、10 30质量份；

~ ~ ~

所述步骤S2中的疏水性SiO2纳米颗粒、异丙醇、甲基异丁基酮、三丙烯酸季戊四醇和羟基环己基苯基酮的添加量，分别为：1 4质量份、20 50质量份、10 30质量份、0.01 0.5质量~ ~ ~ ~份、0.01 0.2质量份。

~

2.根据权利要求1所述的一种耐磨、自清洁减反膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中的三丙烯酸季戊四醇和羟基环己基苯基酮分别为紫外光固化丙烯酸酯树脂和聚合光引发剂。

3.根据权利要求1所述的一种耐磨、自清洁减反膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S3中所述的涂层厚度为80 140 nm。

~

4.根据权利要求1所述的一种耐磨、自清洁减反膜的制备方法，其特征在于，涂层中疏水性SiO2纳米颗粒与有机聚合物的体积比为8：2。

5.根据权利要求1所述的一种耐磨、自清洁减反膜的制备方法，所述疏水性SiO2纳米颗粒的尺寸为10 80 nm。

~

6.一种由权利要求1 5任意一项所述的制备方法制得的耐磨、自清洁减反膜。

~