1.一种低成本往复式磁控溅射镀膜生产线，其特征在于：包括能往复传输基材(12)的带式输送线(1)，所述带式输送线(1)上设有若干能相互连通的腔室，各个腔室之间均设有闸板阀(7)，所述腔室至少包括镀膜工艺腔室(4)，所述镀膜工艺腔室(4)内固定设置有靶材(8)，所述靶材(8)沿所述带式输送线(1)的横向设置，形成阴极磁场的磁铁(11)沿所述靶材(8)横向排列，阴极磁场的磁力线顶端方向与基材(12)传输方向平行。

2.根据权利要求1所述的一种低成本往复式磁控溅射镀膜生产线，其特征在于：所述腔室沿所述带式输送线(1)的长度方向依次包括有进料缓冲腔室(2)、加热腔室一(3)、一个或多个工艺腔室、加热腔室二(5)和出料缓冲腔室(6)，所述工艺腔室至少包括所述镀膜工艺腔室(4)，所述进料缓冲腔室(2)的进口处、所述出料缓冲腔室(6)的出口处均设有闸板阀(7)。

3.根据权利要求2所述的一种低成本往复式磁控溅射镀膜生产线，其特征在于：所述靶材(8)的横向长度是基材(12)的横向长度的1.1‑1.3倍，所述横向长度为垂直于带式输送线(1)输送方向的长度。

4.根据权利要求2‑3中任一所述的一种低成本往复式磁控溅射镀膜生产线，其特征在于：所述工艺腔室只包括镀膜工艺腔室(4)，所述闸板阀(7)有六个，从所述进料缓冲腔室(2)朝所述出料缓冲腔室(6)方向依次为闸板阀一(71)、闸板阀二(72)、闸板阀三(73)、闸板阀四(74)、闸板阀五(75)和闸板阀六(76)。

5.根据权利要求1‑3中任一所述的一种低成本往复式磁控溅射镀膜生产线，其特征在于：每个腔室均设有检测基材(12)位置的位置传感器(9)，每个腔室中的位置传感器(9)均为三个，包括位于腔室两侧开口处的传感器一和传感器三，以及位于腔室的工作位置的传感器二，所述传感器一靠近所述带式输送线(1)的基材(12)进入端，所述传感器三靠近所述带式输送线(1)的基材(12)输出端。