1.一种蓝色铜合金薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

‑3 ‑3

（1）取Cu‑Mo‑Zr复合靶置于真空室内抽真空，在真空度达到1*10 ～9*10 Pa后，向真空室内通入高纯氩气；

（2）在真空室气压达到0.3‑1.0MPa后，采用直流磁控溅射镀膜机使Cu‑Mo‑Zr复合靶溅射沉积于基体上，即得所述蓝色铜合金薄膜，溅射沉积时间为5‑15min，以质量百分比计，蓝色铜合金薄膜中Cu含量为60‑85%，Mo含量为10‑20%，Zr含量为5‑20%，蓝色铜合金薄膜的厚度为75‑300nm。

2.如权利要求1所述的一种蓝色铜合金薄膜的制备方法，其特征在于，所述直流磁控溅射镀膜机为JCP‑350直流磁控溅射镀膜机。

3.如权利要求1所述的一种蓝色铜合金薄膜的制备方法，其特征在于，所述基体为玻璃、聚酰亚胺、硅片、PET中的任意一种。

4.如权利要求3所述的一种蓝色铜合金薄膜的制备方法，其特征在于，所述基体在使用前进行预处理：将基体依次经丙酮和去离子水清洗后，用氮气吹干。