1.一种服役后的保护层，包括基底，其特征在于：还包括铜合金薄膜，所述铜合金薄膜为二元合金，包括铜元素以及与铜在常温、稳态条件下形成正混合熵的添加元素；其中，铜元素的质量百分含量为95 99wt%；其中，所述的铜合金薄膜位于基底表面；

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其制备方法为：在所述基底上形成具有正混合焓的铜合金薄膜；对铜合金薄膜施加能量场，使其中的添加元素析出并在铜薄膜表面形成保护层；所述能量场包括电场、温度场或应力场；能量场维持时间为4 24 h；所述电场是在铜合金薄膜上施加3 9V的电压形成；所述~ ~

温度场的温度为25 60℃，湿度为30%  90%RH。

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2.根据权利要求1所述的保护层，其特征在于：所述铜合金薄膜添加元素选自Mo、Ni、Co和Cr中的任一种。

3.根据权利要求1所述的保护层，其特征在于：所述常温为25℃，所述稳态条件具体是指使用薄膜达到热力学平衡的条件。

4.根据权利要求1所述的保护层，其特征在于：采用物理和/或化学沉积方式在基底上形成铜合金薄膜。

5.根据权利要求4所述的保护层，其特征在于：所述物理和/或化学沉积方式包括电镀、磁控溅射、气相沉积中的任意一种或多种方式的组合。

6.根据权利要求1所述的保护层，其特征在于：所述基底包括金属基底或树脂基底。