1.一种高分散Cu@SBA‑15的原位光诱导自组装合成方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：将硅源、模板剂P123和光致产酸剂PAG混合搅拌均匀，得到分子筛膜凝胶；

S2：将铜盐及光引发剂184加入所述分子筛膜凝胶中混合均匀，得镀膜溶液；

所述模板剂P123、硅源、光致产酸剂PAG、铜盐和光引发剂质量比为40‑60：60‑130：1‑5：

1‑3：2‑8；

S3：将所述镀膜溶液均匀涂抹至基板上，形成一层质地均匀的液膜；

S4：使用波长为320‑395nm 的窄波段、光照强度在10‑100%的紫外光照下对所述液膜进行照射1‑15分钟，脱除所述模板剂，即实现原位光诱导自组装合成高分散Cu@SBA‑15；

以上步骤均在湿度环境为50‑100%且无氧条件下进行。

2.根据权利要求1所述的高分散Cu@SBA‑15的原位光诱导自组装合成方法，其特征在于，在所述S1中，所述模板剂P123、硅源和光致产酸剂PAG的质量比为40‑60：60‑130：1‑5。

3.根据权利要求1所述的高分散Cu@SBA‑15的原位光诱导自组装合成方法，其特征在于，在所述S2中，铜盐及光引发剂184的摩尔质量比为1‑3：2‑8。

4.根据权利要求1所述的高分散Cu@SBA‑15的原位光诱导自组装合成方法，其特征在于，在所述S3中，所述液膜的厚度为1‑40μm。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的高分散Cu@SBA‑15的原位光诱导自组装合成方法，其特征在于，所述模板剂P123为聚环氧乙烷‑聚环氧丙烷‑聚环氧乙烷三嵌段共聚物。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的高分散Cu@SBA‑15的原位光诱导自组装合成方法，其特征在于，所述硅源为聚二甲基硅氧烷；

所述光致产酸剂PAG为二苯基碘鎓六氟磷酸盐；

所述光引发剂184为1‑羟基环己基苯基甲酮；

所述铜盐为二水合氯化铜。