1.一种用于晶圆生产离子注入的控制装置，其结构包括活动道(1)、衔接操作头(2)、离子校对输出口(3)、护环(4)，所述活动道(1)安装于衔接操作头(2)内部，所述衔接操作头(2)底端与离子校对输出口(3)顶端相连接，所述护环(4)嵌套于离子校对输出口(3)外表面且位于同一轴心上，其特征在于：

所述离子校对输出口(3)包括校对口杆(31)、直射道(32)、完整卡扣(33)、灵活压球(34)、整体囊(35)、隔层(36)、定向顶杆(37)，所述校对口杆(31)位于直射道(32)左右两侧，所述完整卡扣(33)与隔层(36)为一体化结构，所述灵活压球(34)位于整体囊(35)内部，所述定向顶杆(37)设有两个；

所述校对口杆(31)包括重力倾向块(311)、顺滑层(312)、卡位槽(313)、耐磨底(314)、缓冲角(315)、主杆(316)，所述重力倾向块(311)安装于主杆(316)内部，所述顺滑层(312)与主杆(316)为一体化结构，所述卡位槽(313)安装于缓冲角(315)与耐磨底(314)之间，所述缓冲角(315)包括滑润层(3151)、缓冲球(3152)、回折条(3153)、回力镖(3154)、空格(3155)，所述滑润层(3151)设有两个，所述缓冲球(3152)与回力镖(3154)相连接，所述回折条(3153)位于回力镖(3154)外表面，所述回折条(3153)安装于空格(3155)内部，所述回折条(3153)包括软条(31531)、耐压夹角(31532)、折弯限向杆(31533)，所述折弯限向杆(31533)安装于软条(31531)内部，所述耐压夹角(31532)嵌入于软条(31531)内部；

所述定向顶杆(37)包括顶壳(371)、稳定三角(372)、固定柱(373)、卡勾(374)、稳固杆(375)，所述顶壳(371)与稳固杆(375)相连接，所述稳定三角(372)嵌入于稳固杆(375)内部，所述卡勾(374)卡于固定柱(373)内部，所述稳定三角(372)包括三角条(3721)、顶角(3722)、实芯(3723)，所述实芯(3723)嵌入于三角条(3721)内部，所述三角条(3721)与顶角(3722)相连接；

所述灵活压球(34)包括中撑层(341)、外压弧(342)、内囊(343)、限位角(344)，所述限位角(344)安装于中撑层(341)内壁，所述内囊(343)位于限位角(344)内部，所述中撑层(341)远离限位角(344)的一端与外压弧(342)相连接。