1.一种光敏剂的应用，其特征在于：将具有式1结构的光敏剂应用于制备治疗多毛症或皮肤美容脱毛的药物；

其中，R1、R2和R3独立选自烷基。

2.根据权利要求1所述的一种光敏剂的应用，其特征在于：R1、R2和R3独立选自C1～C4的烷基。

3.根据权利要求1所述的应用，其特征在于：所述的多毛症包括家族性遗传性多毛症、肾上腺性多毛症、肾上腺肿瘤伴发的多毛症、由库欣病引起的多毛症、先天性肾上腺皮质增生的男性化多毛症、中枢性多毛症、下丘脑与垂体性多毛症、卵巢性多毛症、药源性多毛症、胰岛素抵抗综合症与多毛症、特发性多毛症、甲状腺机能减退性多毛症、绝经期多毛或妊娠性多毛症。

4.根据权利要求1所述的应用，其特征在于：所述的光敏剂制备成口服药物、静脉注射药物、局部浸润注射药物、空压无针注射药物、外用涂覆药物或表面喷涂药物。

5.根据权利要求4所述的应用，其特征在于：所述的光敏剂制备成局部浸润注射药物或空压无针注射药物。

6.根据权利要求1～5任一项所述的应用，其特征在于：所述的光敏剂在波长为600～

1000nm光照下可激活氧分子获得高能氧。

7.根据权利要求6所述的应用，其特征在于：光照强度为1～100J/cm2。

8.根据权利要求1、4或5所述的应用，其特征在于：光敏剂在药物中的浓度为50μM～

1mM。