1.一种氮铝化钛薄膜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：(1)将Ti靶在含有氩气、氢气和氮气的混合气体的气氛中对基材进行反应溅射，以在基材上形成第一扩散层；

(2)将Al靶和Ti靶在含有氩气、氢气和氮气的混合气体的气氛中对形成有所述第一扩散层的基材进行反应溅射，以在第一扩散层表面形成第二扩散层；

(3)将Al靶和Ti靶在含有氩气和氮气的混合气体的气氛中对形成有所述第二扩散层的基材进行反应溅射，以在第二扩散层表面形成第三扩散层，得到形成有包括所述第一扩散层、第二扩散层和第三扩散层的氮铝化钛薄膜的基材；

(4)将形成有所述氮铝化钛薄膜的基材于氩气气氛中保温；

其中，步骤(1)和/或步骤(2)中氩气、氢气和氮气的流量比各自为2-3:1:4-5；步骤(1)和/或步骤(2)氮气的流量各自选自50-90SCCM；真空度为(2-3)×10-1Pa，Ti靶电流40-45A，溅射电压400-420V；

其中，步骤(2)中的反应溅射的条件包括：真空度为(2-3)×10-1Pa；和/或，Ti靶电流40-

45A，溅射电压400-420V；和/或，Al靶电流50-60A；溅射电压400-420V；

其中，步骤(3)中氩气、氮气的流量比为1:2-3；氮气的流量为40-60SCCM；所述步骤(3)中的反应溅射的条件包括：真空度为(2-3)×10-1Pa；和/或，Ti靶电流50-55A，溅射电压400-

420V；和/或，Al靶电流40-45A；溅射电压400-420V；

其中，步骤(4)中保温的条件包括：温度为500-800℃，时间为2-3h；

其中，所述基材为金属、玻璃和陶瓷中的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的氮铝化钛薄膜的制备方法，其中，步骤(1)中反应溅射时间为

0.5-3h；和/或，步骤(2)中反应溅射时间为0.5-3h；和/或，步骤(3)中反应溅射时间为0.5-

3h。

3.根据权利要求2所述的氮铝化钛薄膜的制备方法，其中，步骤(1)中反应溅射时间为

0.5-1h，步骤(3)中反应溅射时间为1-1.5h。

4.根据权利要求1所述的氮铝化钛薄膜的制备方法，其中，在步骤(1)中反应溅射前，还包括对所述基材用丙酮和/或无水乙醇超声清洗5-15min的步骤。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的氮铝化钛薄膜的制备方法制备得到的氮铝化钛薄膜。