1.一种氮化铁薄膜的制备方法，其特征在于该方法包括以下步骤：第一步：氧化铁薄膜制备

选择纯铁靶材和干净玻璃衬底；制备过程中，衬底温度为20～600℃；气氛为氧气，氧气流量控制在10～100sccm；沉积时间控制在0.3~3h；

第二步：还原

将氧化铁薄膜取出，置于热处理炉中，以恒定的速率通入氢气，在300~400℃还原4-

20h，以获得铁薄膜；

第三步：氮化

通入氨气，在120~200℃氮化1~30h；氮化过程中施加磁场，诱导氮化铁的取向，磁场强度0.1~2T；降温，随炉冷却至室温，取出样品，即可获得氮化铁薄膜；

所述的磁场由电磁铁或永磁体产生；

所述的永磁体包括钐钴磁体、钕铁硼磁体、铁氧体磁体、铁钴磁体、铝镍钴磁体和铁铂合金磁体。