1.一种具有高硬度、高强度的CrAlSiN纳米复合涂层的制备工艺，其特征在于：CrAlSiN涂层与基体之间有一层纯Cr金属过渡层，以提高涂层与基体之间的结合力，过渡层厚度为

10 300 nm；CrAlSiN涂层总厚度为1 10 μm；

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所述CrAlSiN涂层中Cr含量为10 43.42 at.%，Al含量为11.44 35 at.%，Si含量为5 15 ~ ~ ~at.%，N含量为40 45.7 at.%，涂层成分通过调节Cr靶、Al靶、Si靶的功率来控制；

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所述的CrAlSiN涂层为面心立方结构的（Cr，Al）N相，其中Si以非晶相SixNy的形式分布于（Cr，Al）N相晶界处，阻止（Cr，Al）N相长大，起到细化晶粒的作用；

所述CrAlSiN涂层是采用高功率脉冲和直流脉冲共溅射技术在金属或硬质合金上沉积获得；基体材料在丙酮、酒精、去离子水中超声清洗后，采用N2吹干，并放在旋转速度为5~45 r/min的转架上，基体材料与靶材距离为60 120 mm；

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采用机械泵和分子泵抽真空，当真空室气压优于1×10-3 Pa时，打开加热系统将炉腔加-3热至100 450 ºC；待炉内真空度优于2×10  Pa时，开启Ar气流量阀，气流量为30 300 ~ ~sccm，调整节流阀使真空室压强为0.1 1 Pa，基体加-800V负偏压，辉光清洗10 30 min；开~ ~启Cr靶、Al靶和Si靶，靶材功率均为0.4 2 kW ，对基体和靶材进行轰击清洗；降低偏压至-~

10 100 V，关闭Al靶和Si靶电源，沉积纯Cr金属过渡层10 40 min；

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沉积CrAlSiN涂层时，同时通入N2和Ar，其气流量分别为30 300 sccm，调整节流阀使真~空室压强为0.1~0.8 Pa，控制N2/Ar比在0.3~3之间；开启Cr靶、Al靶和Si靶，靶材功率均为

0.4 2 kW ，沉积CrAlSiN涂层；沉积时间为120 360 min。

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2.根据权利要求1所述的具有高硬度、高强度的CrAlSiN纳米复合涂层的制备工艺，其特征在于：根据所需CrAlSiN涂层厚度调整靶材功率、基材转速、涂层的沉积时间工艺参数。

3.根据权利要求1所述的具有高硬度、高强度的CrAlSiN纳米复合涂层的制备工艺，其特征在于：所述CrAlSiN涂层硬度为20 50 GPa，弹性模量为350 500 GPa，具有很好的抗高~ ~温氧化性能，与基体结合良好。