1.一种光掩模集成微塑型方法，其特征在于，包括如下步骤：

S101、在显微镜载玻片的表面涂覆形成牺牲层，并进行烘焙；

S102、向微型模具的型腔内滴入光刻胶，并盖上冷却后的显微镜载玻片，所述光刻胶为纳米复合材料；

S103、对微型模具先进行曝光前预加热，所述预加热的操作为在50℃～100℃范围内选择多个温度由低至高地依次烘烤；

S104、让微型模具在紫外线光源照射下曝光，使型腔内的纳米复合材料固化；

S105：对微型模具进行曝光后烘烤，所述烘烤的操作为在50℃～100℃范围内选择多个温度由低至高地依次烘烤；

S106、将微型模具冷却到室温后，从模具中脱模，移走载玻片和三维微结构，并除去未交联的薄膜；

S107、冲洗三维微结构，并进行干燥。

2.如权利要求1所述的光掩模集成微塑型方法，其特征在于，步骤S101中，在显微镜载玻片的表面旋涂一层牺牲层，开始时旋涂速度为400-600rpm，旋涂时间为3-8s，接着旋涂速度提高到2500-3000rpm，旋涂时间为30s。

3.如权利要求1所述的光掩模集成微塑型方法，其特征在于，步骤S101中，在200℃烘焙

1min。

4.如权利要求1所述的光掩模集成微塑型方法，其特征在于，步骤S102中，向微型模具的型腔内滴入一至两滴运动粘度为1050mm2s-1的SU-8负型光刻胶。

5.如权利要求1所述的光掩模集成微塑型方法，其特征在于，步骤S103中，选取65℃、75℃、85℃、95℃依次烘烤10分钟。

6.如权利要求1所述的光掩模集成微塑型方法，其特征在于，步骤S104中，让微型模具在365纳米波长的紫外线光源照射下曝光2分钟，其紫外线的光照强度为1.5mW/cm2，使型腔内的纳米复合材料固化。

7.如权利要求1所述的光掩模集成微塑型方法，其特征在于，步骤S105中，选取65℃、75℃、85℃、95℃依次烘烤10分钟。

8.如权利要求1所述的光掩模集成微塑型方法，其特征在于，步骤S106中，将微型模具冷却到室温后，从模具中脱模，移走载玻片和三维微结构，并在SU-8显影液中浸泡8-15分钟，轻轻搅动试液除去未交联的薄膜。

9.如权利要求1所述的光掩模集成微塑型方法，其特征在于，步骤S107中，用去离子水冲洗三维微结构，并常温干燥。

10.如权利要求1所述的光掩模集成微塑型方法，其特征在于，所述微型模具为透明的镀铬玻璃模具，所述微型模具的第一表面设有型腔，所述第一表面中所述型腔之外的部分镀有屏蔽紫外线的铬合金层。