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专利号: 2016108325956
申请人: 浙江大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-03-02
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种通过pH冲击来提高井冈霉素产量的发酵方法,其特征在于包括如下步骤:

第一步,将-80℃保存的吸水链霉菌井冈变种5008菌株的孢子悬浮液融化,将其涂布于含有固体培养基的平板上,然后将平板倒置,于37℃培养7-10d,待表面长满青灰色孢子时取出,制备孢子活化液;所述的吸水链霉菌井冈变种5008菌株,Streptomyces hygroscopicus var.jinggangensis 5008,保藏于中国普通微生物菌种保藏管理中心,保藏号为CGMCC4.1026;

第二步,将孢子活化液与种子培养基按照体积比为1:1000的比例接种到种子培养基中,接种后于37℃,220rpm条件下培养20-28小时;

第三步,将种子培养液与发酵培养基按照体积比为1:10的比例接种到发酵培养基中,接种后以37℃,220rpm条件下培养12-24h后,加入碱溶液直到发酵体系pH达到7.5-8.5,继续发酵96-120h,发酵结束。

2.根据权利要求1所述的通过pH冲击来提高井冈霉素产量的发酵方法,其特征在于所述的碱溶液不含无机磷酸盐离子。

3.根据权利要求1所述的通过pH冲击来提高井冈霉素产量的发酵方法,其特征在于所述的碱溶液为KOH溶液、NaOH溶液或NH3·H2O溶液。

4.根据权利要求1或2所述的通过pH冲击来提高井冈霉素产量的发酵方法,其特征在于所述的碱溶液的滴加方式为缓慢沿壁逐滴滴加碱溶液,并迅速摇匀。

5.根据权利要求2所述的通过pH冲击来提高井冈霉素产量的发酵方法,其特征在于所述的碱溶液的浓度为2mol/L。

6.根据权利要求1所述的通过pH冲击来提高井冈霉素产量的发酵方法,其特征在于所述的步骤三中,加入碱溶液前的培养时间为20h,加入碱溶液直到发酵体系pH达到8.0。

7.根据权利要求1所述的通过pH冲击来提高井冈霉素产量的发酵方法,其特征在于所述的固体培养基的组分为:黄豆饼粉20g/L、甘露醇20g/L以及琼脂20g/L,余量为自来水;所述的种子培养基的组分为:玉米粉30g/L、黄豆饼粉22g/L、酵母粉10g/L、NaCl 2g/L以及KH2PO4 0.8g/L,余量为蒸馏水;所述的发酵培养基的组分为:玉米粉100g/L、黄豆饼粉25g/L、酵母粉5g/L、NaCl 1g/L以及KH2PO4 1.5g/L,余量为去离子水。