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专利号: 2012100152170
申请人: LG伊诺特有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2024-12-09
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种半导体发光器件,包括:

n电极,所述n电极具有顶表面和底表面;

形成在所述n电极的顶表面中的不均匀图案;

形成在所述n电极上的n型半导体层,所述n型半导体层具有顶表面和底表面;

形成在所述n型半导体层的底表面中的不均匀图案,所述n型半导体层的不均匀图案接触所述n电极的不均匀图案;

形成在所述n型半导体层上的有源层;

形成在所述有源层上的p型半导体层;以及形成在所述p型半导体层上的p电极。

2.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其中形成在所述n电极的顶表面中的不均匀图案延伸跨越所述n电极和所述n型半导体层之间的整个边界。

3.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其中所述n型半导体层和所述p型半导体层由GaN形成。

4.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其中所述n电极和p电极中的至少一个是透明的。

5.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其中所述有源层是多量子阱结构。

6.根据权利要求1所述的半导体发光器件,还包括在所述p型半导体层和所述p电极之间的p接触半导体层。

7.根据权利要求1所述的半导体发光器件,还包括在接触所述p电极的所述p型半导体层中的不均匀图案。

8.根据权利要求7所述的半导体发光器件,其中所述p型半导体层中的不均匀图案以规则的间隔形成。

9.根据权利要求7所述的半导体发光器件,其中所述p型半导体层中的不均匀图案以不同的间隔形成。

10.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其中所述n型半导体层中的不均匀图案以规则的间隔形成。

11.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其中所述n型半导体层中的不均匀图案以不同的间隔形成。