1.一种用于蚀刻的化学反应池，包括反应池主体(1)，反应池主体(1)内设置为蚀刻液槽(2)，其特征在于：所述反应池主体(1)后端的上端设置有竖向移动组件(9)；

所述竖向移动组件(9)包括横向支撑板(14)，所述横向支撑板(14)下端安装有第二驱动电机(17)，所述横向支撑板(14)上端沿第二驱动电机(17)的输出轴端安装有扇形齿轮(18)，所述横向支撑板(14)上端沿扇形齿轮(18)外部设置有滑动框(19)，所述滑动框(19)内部前后端均设置有内固定齿部(21)，两个所述内固定齿部(21)交替与扇形齿轮(18)啮合；

所述竖向移动组件(9)上连接有工件蚀刻篮(22)，所述工件蚀刻篮(22)包括蚀刻篮主体(26)，蚀刻篮主体(26)位于蚀刻液槽(2)内，所述蚀刻篮主体(26)内设置为蚀刻槽(27)。

2.根据权利要求1所述的一种用于蚀刻的化学反应池，其特征在于：所述反应池主体(1)后端中间的下端固定有横向固定板(5)，所述横向固定板(5)的下端安装有第一驱动电机(6)，所述横向固定板(5)上端沿第一驱动电机(6)的输出轴端安装有竖向螺纹杆(7)，所述反应池主体(1)后端沿横向固定板(5)上端的两侧固定有竖向限位杆(8)。

3.根据权利要求2所述的一种用于蚀刻的化学反应池，其特征在于：所述横向支撑板(14)下端的前端设置有贴合立板(10)，所述贴合立板(10)两侧位置设置有竖向固定杆(11)，所述竖向固定杆(11)前端面开设有限位滑槽(12)，竖向固定杆(11)与竖向限位杆(8)位置对应并通过限位滑槽(12)沿着竖向限位杆(8)滑动，所述横向支撑板(14)下端固定有外套筒(13)，外套筒(13)位于竖向螺纹杆(7)外部上端并与竖向螺纹杆(7)通过螺纹连接。

4.根据权利要求1所述的一种用于蚀刻的化学反应池，其特征在于：所述横向支撑板(14)上端的前后端均固定有横向限位杆(15)，所述横向限位杆(15)的两侧固定有限位端块(16)。

5.根据权利要求4所述的一种用于蚀刻的化学反应池，其特征在于：所述滑动框(19)下端面的前后端开设有横向滑槽(20)，滑动框(19)通过横向滑槽(20)沿着横向限位杆(15)滑动。

6.根据权利要求1所述的一种用于蚀刻的化学反应池，其特征在于：所述滑动框(19)上端的两侧连接有固定C形板(23)，两个所述固定C形板(23)上端的中间焊接固定有连接横板(24)，所述连接横板(24)的上端固定有L形连接板(25)，L形连接板(25)的另一端延伸至蚀刻液槽(2)内部与蚀刻篮主体(26)连接。

7.根据权利要求1所述的一种用于蚀刻的化学反应池，其特征在于：所述反应池主体(1)一侧上端安装有进液管(3)，所述反应池主体(1)一侧下端安装有排液管(4)，进液管(3)和排液管(4)内端均与蚀刻液槽(2)连通。