1.工程机械耐磨铲刀片的制备方法，其特征在于，铲刀片零件材料经过轧制、淬火、高温回火后，采用离子镀方法进行表面渗碳处理，然后再通过磁控溅射方法沉积表面的W过渡层和WTiTaB硼化物梯度涂层，沉积时采用1个C离子镀靶，1个W磁控溅射靶和1个WTiTaB磁控溅射复合靶，具体包括以下步骤：(1)铲刀片零件加工：轧制；

(2)铲刀片零件热处理：淬火→高温回火；

(3)零件表面处理：将零件依次放入酒精和丙酮中，超声清洗各30‑40min，去除表面杂‑3 质和附着物，干燥充分后放入PVD复合镀膜机，抽真空至（5.0‑5.5）×10 Pa，加热至300‑

350℃，保温30‑40 min；

(4)表面辉光清洗：通Ar气，其压力为2.0‑2.2 Pa，温度280‑300 ℃，打开偏压电源电压

650‑700 V，占空比0.3‑0.4，表面辉光放电清洗30‑40 min；

(5)表面离子清洗：偏压调至500‑550 V，占空比0.3‑0.4，Ar气压1.2‑1.5 Pa，温度260‑

300℃，开启离子源，离子清洗20‑25 min，开启电弧C靶电源，C靶电流100‑110 A，离子轰击

2‑3 min；

(6)离子镀渗碳：C靶离子镀电源调为90‑100 A，Ar气压1.0‑1.5 Pa，基体偏压调至400‑

450 V，温度250‑300 ℃，进行离子渗碳20‑30 min；

(7)沉积W过渡层：Ar气压调为0.9‑1.0 Pa，偏压降为300‑330 V，沉积温度250‑300℃，关闭C靶电流，打开W靶电流100‑110 A，沉积W过渡层5‑10 min；

(8)沉积WTiTaB硼化物梯度涂层：Ar气压调为0.9‑1.0 Pa，偏压调为230 V，沉积温度

230‑250 ℃，关闭W靶电流，打开WTiTaB磁控溅射靶电流60 A，沉积WTiTaB复合层4‑5 min；

其它参数不变，增加WTiTaB磁控溅射靶电流至65A，沉积WTiTaB复合层4‑5 min；每间隔4‑5 min，靶电流增加5 A，直至靶电流增至110 A，再沉积WTiTaB复合层4‑5 min；

后处理：关闭各靶电源、离子源及气体源，涂层结束。

2.如权利要求1所述的工程机械耐磨铲刀片的制备方法，其特征在于，铲刀片零件基体材料为Q345、Q460、45钢、40Cr中碳钢及其合金钢的一种。

3. 如权利要求1所述的工程机械耐磨铲刀片的制备方法，其特征在于，步骤（6）中离子镀渗碳所使用的是C离子镀靶材，靶材所采用的C粉末颗粒直径为30‑50 nm。

4. 如权利要求1所述的工程机械耐磨铲刀片的制备方法，其特征在于，步骤（7）中沉积W过渡层所使用的是W磁控溅射靶材，靶材所采用的W粉末颗粒直径为50‑70 nm。

5. 如权利要求1所述的工程机械耐磨铲刀片的制备方法，其特征在于，步骤（8）中沉积WTiTaB硼化物梯度涂层所使用的是WTiTaB磁控溅射靶材，靶材所采用的粉末颗粒直径为

60‑100 nm。

6.如权利要求1所述的工程机械耐磨铲刀片的制备方法，其特征在于，步骤（8）中靶材所采用的粉末颗粒中WTiTaB，靶材各元素的原子百分比含量为：W：50‑55at.%，Ti：15‑

25at.%，Ta：5‑15at.%，B：10‑20at.%。

7.如权利要求1‑6任一项所述的制备方法制备的铲刀片，其特征在于，铲刀片零件基体（1）表面向外依次具有表面渗碳扩散层（2）、W过渡层（3）和WTiTaB硼化物梯度涂层（4）。