1.一种折射率传感器，其特征在于：

包括反射底层(100)，以及设置在所述反射底层(100)上方的介质层(200)；

还包括多组金属结构(300)，每组所述金属结构(300)均包括均匀贴附于所述介质层(200)上表面的第一金属环(310)、嵌设于所述介质层(200)内部的第二金属环(320)；

所述第一金属环(310)设置有第一开口(311)，所述第二金属环(320)设置有第二开口(321)；

所述第一金属环(310)以二维阵列排布于所述介质层(200)上表面，所述第二金属环(320)以二维阵列排布于所述介质层(200)内部。

2.根据权利要求1所述的一种折射率传感器，其特征在于：所述第一开口(311)的设置范围为[15.3μm,16.5μm]；

所述第二开口(321)设置为33μm。

3.根据权利要求1所述的一种折射率传感器，其特征在于：所述第一金属环(310)与所述第二金属环(320)的间距设置范围为[19μm,31μm]。

4.根据权利要求1所述的一种折射率传感器，其特征在于：所述介质层(200)采用聚酰亚胺材料。

5.根据权利要求1所述的一种折射率传感器，其特征在于：二维阵列在横向上及纵向上的长度的范围均为[140μm,180μm]；

二维阵列在横向上的金属结构(300)个数的范围为[6,8]，所述二维阵列在纵向上的金属结构(300)个数的范围为[6,8]。

6.根据权利要求1‑5任一项所述的一种折射率传感器，其特征在于：所述第二开口(321)与所述第一开口(311)存在相对角度差。

7.根据权利要求6所述的一种折射率传感器，其特征在于：多组金属结构(300)中所述第一开口(311)和所述第二开口(321)存在的相对角度差均相等。

8.根据权利要求7所述的一种折射率传感器，其特征在于：所述相对角度差为60°。

9.根据权利要求7所述的一种折射率传感器，其特征在于：所述相对角度差为30°。

10.一种折射率探测方法，其特征在于，包括步骤：S1、对权利要求1‑9任一项所述的一种折射率传感器入射左旋偏振光和右旋圆偏振光，以使得所述传感器处于EP点状态；

S2、对处于EP点状态的传感器施加外界微扰，以获得反射光谱图，基于所述反射光谱图计算折射率。