1.一种相比例可控TiAl单晶的调控方法，其特征在于，包括以下步骤：将初始TiAl单晶用砂纸研磨，机械抛光，电解抛光，再控制热处‑4

理炉膛内的真空度达到10 Pa以下，进行升温、保温和冷却，即可得到所述相比例可控TiAl单晶；

所述保温温度为900℃ 1340℃，所述保温时间为3 100h；

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所述相比例可控TiAl单晶的α2相调控范围为5~40%；

所述升温速度为3℃/min；

所述冷却为炉冷却至室温，所述冷却速率为10 20℃/s；

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所述初始TiAl单晶的α2相为15%，γ相为85%。

2.根据权利要求1所述的相比例可控TiAl单晶的调控方法，其特征在于，所述相比例可控TiAl单晶的α2相可以在5%~40%内往复调控。

3.根据权利要求1所述的相比例可控TiAl单晶的调控方法，其特征在于，所述相比例可‑3 ‑1控TiAl单晶在10 s 的拉伸速率下，拉伸强度为617 1174Mpa，伸长率为2.6 15.7%。

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4.权利要求1 3任意一项所述的相比例可控TiAl单晶的调控方法制备得到的相比例可~控TiAl单晶。