1.一种镁合金表面超疏水复合膜层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： （1）将镁合金试样进行表面预处理；

（2）采用Al靶材和Si靶材，在步骤（1）得到的表面预处理后的镁合金试样上溅射AlSi层；

（3）将Al靶材更换为Si靶材，在步骤（2）表面附着AlSi层的镁合金试样上溅射SiO2层，取出镁合金试样，即得镁合金表面超疏水复合膜层。

2.如权利要求1所述的镁合金表面超疏水复合膜层的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述镁合金为AZ31、AM60、AZ91D或WE43中的一种；

镁合金试样表面预处理的方法为：将镁合金试样依次用400#、800#、1500#的砂纸打磨，再经抛光处理后，依次放入丙酮、去离子水和无水乙醇中各超声波清洗3 10min，吹干。

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3.如权利要求1所述的镁合金表面超疏水复合膜层的制备方法，其特征在于，Al靶材和Si靶材的纯度≥99.99%。

4.如权利要求1所述的镁合金表面超疏水复合膜层的制备方法，其特征在于，步骤（2）中，溅射AlSi层的方法为：将步骤（1）表面预处理后的镁合金试样放入磁控溅射真空室中，四个靶位交替放入两个Al靶材和两个Si靶材，调节靶材与镁合金试样的距离为80mm后，抽真空，通氩气，对靶材进行溅射清洗，待靶材溅射清洗结束后，调节氩气流量和真空室气压，结合氩离子刻蚀，在镁合金试样表面溅射AlSi层。

5.如权利要求4所述的镁合金表面超疏水复合膜层的制备方法，其特征在于，氩气纯度≥99.999%；

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靶材溅射清洗参数为：真空度1×10 5×10 Pa，氩气流量为100 250sccm，溅射清洗时~ ~间5 30min；

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溅射AlSi层参数为：氩气流量30 60sccm，真空室气压0.8 1.5Pa，溅射功率30 150W，溅~ ~ ~射温度为室温。

6.如权利要求4所述的镁合金表面超疏水复合膜层的制备方法，其特征在于，氩离子刻蚀的处理为：先溅射AlSi 10 20min，后氩离子溅射1 5min，然后继续溅射AlSi 10 20min，~ ~ ~再氩离子溅射1 5min，如此反复5 10次。

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7.如权利要求1所述的镁合金表面超疏水复合膜层的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，溅射SiO2层的方法为：调节靶材与步骤（2）制得的表面附有AlSi层的镁合金试样的距离为100mm，抽真空，通氩气，对靶材进行溅射清洗，待靶材溅射清洗结束后，调节氩气流量和真空室气压，同时再通氧气，在步骤（2）制得的表面附有AlSi层的镁合金试样的表面溅射SiO2层。

8.如权利要求7所述的镁合金表面超疏水复合膜层的制备方法，其特征在于，氩气纯度≥99.999%，氧气纯度≥99.999%；

‑4 ‑4

靶材溅射清洗参数为：真空度1×10 5×10 Pa，氩气流量为100 250sccm，溅射清洗时~ ~间5 30min；

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溅射SiO2层的参数为：氩气流量20~40sccm，氩气和氧气的流量比（5~10）：1，真空室气压

0.7 2.0Pa，溅射功率40 200W，溅射温度为室温，溅射时间为50 150min。

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9.由权利要求1 8任一项所述的制备方法制备得到的镁合金表面超疏水复合膜层。

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10.如权利要求9所述的镁合金表面超疏水复合膜层，其特征在于，所述镁合金表面超疏水复合膜层由内向外，依次为AlSi层和SiO2层；

所述镁合金表面超疏水复合膜层润湿接触角为157.5°。