1.一种等离子体辅助原子层沉积高阻隔膜装置，包括镀膜室、远程等离子体原子层沉积系统，所述镀膜室两侧分别设有收卷辊和放卷辊，其特征在于：所述镀膜室设有多个，且依次轴向相邻拼接密闭，所述镀膜室内设有导向辊，导向辊与收卷辊和放卷辊之间通过基材料带相连，每个镀膜室上方均设有远程等离子体原子层沉积系统，其等离子体发射端紧挨通过基材料带。

2.根据权利要求1所述的一种等离子体辅助原子层沉积高阻隔膜装置，其特征在于：所述镀膜室的一侧延伸有上连接卡座，另一侧延伸有下连接卡座，上连接卡座与下连接卡座之间衔接有一密封座，所述密封座与上连接卡座和下连接卡座采用螺栓固定，且密封座和上连接卡座与下连接卡座之间形状适配。

3.根据权利要求2所述的一种等离子体辅助原子层沉积高阻隔膜装置，其特征在于：最外侧的两个所述镀膜室外侧密封且一侧贯通，相对内侧的镀膜室两侧均贯通。

4.根据权利要求2所述的一种等离子体辅助原子层沉积高阻隔膜装置，其特征在于：所述密封座上开设有通槽，供基材料带通过。

5.根据权利要求1所述的一种等离子体辅助原子层沉积高阻隔膜装置，其特征在于：每个所述镀膜室内分别周向设置有多个抽气头和进气头，抽气头位于上方、进气头位于下方，所述镀膜室内壁开设有两独立的环形腔，两环形腔分别与抽气头和进气头相通。