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一种等离子体辅助原子层沉积高阻隔膜装置
￥2100
专利号： 2022213664481
申请人： 浙江弘康半导体技术股份有限公司
专利类型：实用新型
专利状态：已下证
更新日期：2026-07-16
缴费截止日期： 暂无
国家局暂未公布该信息
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