1.一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置，其特征在于：包括缓冲混合室(1)、过渡腔(5)和反应室(8)，其中缓冲混合室(1)顶部竖直设有多路气相物进管(2)，该缓冲混合室外壁的左侧设有多路气溶胶进管(3)，每路气溶胶进管(3)与一个单独的雾化源相连，且气相物进管(2)和气溶胶进管(3)均与缓冲混合室(1)的内腔连通；所述缓冲混合室(1)内竖直固定有一块缓冲板(4)，缓冲板(4)上端与缓冲混合室(1)固定，该缓冲板下端悬空，且缓冲板(4)将气溶胶进管(3)和气相物进管(2)与缓冲混合室(1)右部的出口隔开；

所述过渡腔(5)位于缓冲混合室(1)和反应室(8)之间，缓冲混合室(1)内混合后的前驱体通过该过渡腔后进入反应室(8)内；所述过渡腔(5)的内腔为矩形腔，该水平腔的高度为

5-8mm，且过渡腔(5)中部的窗口处水平设有透明石英玻璃片(6)，该透明石英玻璃片用于观察和加载光照；所述过渡腔(5)内壁的底部设有两个液体收集凹槽(5d)，这两个液体收集凹槽分居在所述透明石英玻璃片(6)左、右侧；两个所述液体收集凹槽(5d)的结构及尺寸一致，该液体收集凹槽的宽度为0.1-0.3mm，深度为1-2mm，且液体收集凹槽(5d)的槽底与液体收集瓶(7)连通；

所述反应室(8)的侧壁为双层中空结构，中间的空腔为水冷腔，且反应室(8)的外壁上接有与该水冷腔连通的进水管和出水管；所述反应室(8)顶部敞口，该敞口能够由密封盖(9)密封，而密封盖(9)上设有水冷却腔，且密封盖(9)上接有与该水冷却腔连通的进水管和出水管；所述反应室(8)内水平设有反应腔(10)，该反应腔左端的进口与所述过渡腔(5)出口端连通，反应腔(10)右端的出口装在所述反应室(8)侧壁上的安装孔中；所述反应腔(10)为矩形腔，该反应腔上壁与下壁之间的间距在5mm以内；所述反应腔(10)中部的上缺口处设有上升降板(11)，该反应腔中部的下缺口处对应上升降板(11)设有下升降板(12)；所述上升降板(11)的上板面沿反应腔(10)长度方向并排固定有一组上碘钨灯(13)，该上碘钨灯的长度方向朝所述反应室(8)的前、后侧壁，所述下升降板(12)下板面对应上碘钨灯(13)固定有一组下碘钨灯(14)；所述上升降板(11)和下升降板(12)的左、右端分别通过一个高度调整组件与反应腔(10)外表面相连，并可以在高度调整组件的作用下调整上、下升降板的高度，从而调整上、下升降板之间的间距；所述上、下升降板之间的区域为反应区，而下升降板(12)的上板面配设有多组不同厚度的衬底模板(15)，该衬底模板上的安装孔用于放置相应厚度的衬底；

所述过渡腔(5)上接有用于检测该过渡腔内气体压力的第一气体压力传感器(16)，尾气收集管(17)上接有第二气体压力传感器(18)和抽气泵(19)，该尾气收集管的进气端与所述反应腔(10)右端的出口连通；所述第二气体压力传感器(18)用于检测尾气收集管(17)内的气体压力，第一、二气体压力传感器(16、18)的检测数据反馈给所述抽气泵(19)的控制器，该控制器控制抽气泵(19)的抽气速度。

2.根据权利要求1所述的雾化辅助CVD薄膜沉积装置，其特征在于：所述缓冲混合室(1)下方接有液体收集罐(20)，该液体收集罐的连接段与缓冲混合室(1)底部相连，并用于收集缓冲混合室(1)内的液体；所述反应腔(10)的底部设有液体收集槽(10a)，该液体收集槽位于所述反应区的左侧。

3.根据权利要求1所述的雾化辅助CVD薄膜沉积装置，其特征在于：所述上碘钨灯(13)等距设置，该上碘钨灯的数目为4-8个，且每个上碘钨灯(13)和每个下碘钨灯(14)分别通过一个对应的控制器控制发热功率。

4.根据权利要求1所述的雾化辅助CVD薄膜沉积装置，其特征在于：所述高度调整组件包括L形块(21)和锁紧螺母(23)，其中L形块(21)的竖直段与所述上、下升降板端部固定，该L形块的水平段活套在螺杆(22)外面，该螺杆(22)竖直固设在所述反应腔(10)的外壁上；所述锁紧螺母(23)套装在对应的螺杆(22)上，并位于对应的L形块(21)水平段上、下侧，且用于对L形块(21)限位。

5.根据权利要求1所述的雾化辅助CVD薄膜沉积装置，其特征在于：所述气溶胶进管(3)与缓冲混合室(1)右部的出口位于同一个水平面内，所述缓冲板(4)下端超过气溶胶进管(3)的底面10-15mm。

6.根据权利要求1所述的雾化辅助CVD薄膜沉积装置，其特征在于：所述过渡腔(5)由左过渡腔(5a)、中间过渡腔(5b)和右过渡腔(5c)对接而成，而相邻两个腔室之间的对接处通过法兰盘连接固定，且所述透明石英玻璃片(6)设在中间过渡腔(5b)上。

7.根据权利要求1-6任一所述的雾化辅助CVD薄膜沉积装置，其特征在于：所述反应腔(10)由两个U形槽板对接而成，且对接处密封固定。