1.一种硅片扩散炉持续供气系统，其特征在于，包括：加热棒、密封筒、导气管、固定阀板和旋转阀板，所述加热棒同心设置密封筒中，所述导气管环形阵列设置在密封筒中并沿密封筒的长度方向延伸，所述固定阀板固定设置密封筒中并位于导气管的前端，所述固定阀板上设置有与导气管一一对应的连接孔，所述旋转阀板活动设置在固定阀板的正面，所述旋转阀板上设置有一个与连接孔对应的阀孔，所述密封筒前端设置有盖板，所述旋转阀板背面设置有延伸至盖板外侧的驱动轴，所述盖板上设置有出气管接头，所述密封筒外圆上设置有进气管接头。

2.根据权利要求1所述的硅片扩散炉持续供气系统，其特征在于，所述驱动轴上设置有驱动轮。

3.根据权利要求1所述的硅片扩散炉持续供气系统，其特征在于，所述进气管接头位于密封筒外圆前端。

4.根据权利要求1所述的硅片扩散炉持续供气系统，其特征在于，所述加热棒采用电加热棒，所述加热棒上间隔设置有翅片。

5.根据权利要求1所述的硅片扩散炉持续供气系统，其特征在于，所述密封筒中间隔设置有支架，所述支架上设置有与加热棒及导气管对应的通孔。

6.根据权利要求1所述的硅片扩散炉持续供气系统，其特征在于，所述密封筒外壁设置有保温层。