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专利号: 2022113309802
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-08-19
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种基于In2O3/Pd纳米粒子组装结构的氨气气敏材料,其特征在于所述In2O3/Pd纳米粒子组装材料是利用团簇束流沉积技术制备,利用双靶团簇溅射源,在带有绝缘衬底的柔性叉指电极表面先后沉积In2O3纳米粒子和Pd纳米粒子,得到的不同质量比例的In2O3/Pd混合纳米粒子组装材料;

所述In2O3/Pd混合纳米粒子中,Pd纳米粒子的质量占比为0.5%~10%;

In2O3纳米粒子和Pd纳米粒子组合为无序均匀的混合结构,形成Pd/In2O3混合纳米粒子组装材料。

2.如权利要求1所述的一种基于In2O3/Pd纳米粒子组装结构的氨气气敏材料的制备方法,其特征在于包括以下步骤:

1)将高纯度In2O3和Pd靶材分别安装在团簇束流沉积设备中多靶磁控团簇源的两个溅射枪上,将带有绝缘衬底的柔性叉指电极放置在团簇束流沉积系统的沉积室内,对整个装‑5置抽真空至沉积室真空度达到5×10 Pa以上;

2)溅射枪上通入溅射气,并向团簇束流沉积系统的溅射腔中通入缓冲气,溅射腔中气压为1 300 Pa范围内;

~

3)先后分别溅射In2O3和Pd靶材,在带有绝缘衬底的柔性叉指电极表面先沉积In2O3纳米粒子,再沉积Pd纳米粒子,通过调整溅射时间和功率控制两种纳米粒子比例,得到的不同质量比例的In2O3/Pd混合纳米粒子组装材料;

将In2O3靶材的溅射功率设置为7~10 W,其溅射电流为0.028~0.033 A,溅射电压为250~

300 V,溅射时间为1000 1500 s;

~

将Pd靶材的溅射功率设置为10 15 W,其溅射电流为0.035 0.042 A,溅射电压为300~ ~ ~

360 V。

3.一种氨气气敏柔性传感器件,其特征在于包括权利要求1所述的在带有绝缘衬底的柔性叉指电极表面沉积In2O3纳米粒子和Pd纳米粒子的In2O3/Pd混合纳米粒子组装材料,其用于检测气体中氨气含量。