1.一种足底力分布测量装置，其特征在于，包括：底板；

前掌测力模块，安装在所述底板上；

足跟测力模块，安装在所述底板上，并位于所述前掌测力模块的后端；

纵向定位机构，安装于所述足跟测力模块或所述底板上，所述纵向定位机构具有凸出于所述足跟测力模块上表面的定位面，所述纵向定位机构沿所述足跟测力模块或所述底板的纵向活动设置；

锁紧机构，位于所述纵向定位机构与所述足跟测力模块或所述底板之间，所述锁紧机构被配置为具有以下状态：

锁紧状态，所述锁紧机构将任意位置的所述纵向定位机构约束在与所述足跟测力模块或所述底板相对固定的状态；

解锁状态，所述锁紧机构解除对所述纵向定位机构的约束，以使所述纵向定位机构能够沿所述足跟测力模块或所述底板的纵向自由活动。

2.根据权利要求1所述的足底力分布测量装置，其特征在于，所述前掌测力模块包括前掌外侧测力模块和前掌内侧测力模块；所述前掌外侧测力模块和前掌内侧测力模块之间设有横向定位机构。

3.根据权利要求2所述的足底力分布测量装置，其特征在于，所述横向定位机构包括横向定位部，所述横向定位部凸出于所述前掌外侧测力模块和前掌内侧测力模块的上表面设置。

4.根据权利要求3所述的足底力分布测量装置，其特征在于，所述横向定位部沿所述前掌测力模块的纵向活动设置，所述横向定位部与底板之间设有弹性单元，所述弹性单元被装配为其弹力能够驱使所述横向定位部向后运动，所述横向定位部与所述底板之间还设有用于限制所述横向定位部活动行程的限位部。

5.根据权利要求2所述的足底力分布测量装置，其特征在于，所述横向定位机构包括灯带，所述灯带安装在所述底板上，所述前掌外侧测力模块与前掌内侧测力模块之间设有供所述灯带的光线穿过的窄缝。

6.根据权利要求2所述的足底力分布测量装置，其特征在于，所述前掌外侧测力模块包括前掌外侧托板和前掌外侧力传感器，所述前掌外侧力传感器安装在所述前掌外侧托板与所述底板之间，所述前掌外侧力传感器为至少3个至少一维的力传感器或1个至少三维的多维力传感器；

所述前掌内侧测力模块包括前掌内侧托板和前掌内侧力传感器，所述前掌内侧力传感器安装在所述前掌内侧托板与所述底板之间，所述前掌内侧力传感器为至少3个至少一维的力传感器或1个至少三维的多维力传感器；

所述足跟测力模块包括足跟托板和足跟力传感器，所述足跟力传感器安装在所述足跟托板与所述底板之间，所述足跟力传感器为至少3个至少一维的力传感器或1个至少三维的多维力传感器。

7.根据权利要求6所述的足底力分布测量装置，其特征在于，所述前掌外侧力传感器、前掌内侧力传感器和足跟力传感器为测量垂向力的一维传感器，或测量垂向力和切向力的二维传感器，或测量垂向力、纵向力和横向力的三维力传感器，或一维力和两维力矩的力传感器或两维力和两维力矩的四维力传感器，或三维力和两维力矩的五维力传感器，或三维力和三维力矩的六维力传感器。

8.根据权利要求1所述的足底力分布测量装置，其特征在于，所述纵向定位机构包括定位块，所述定位块的前侧设有定位槽。

9.根据权利要求8所述的，足底力分布测量装置，其特征在于，所述足跟托板或底板上设有位置识别单元，所述位置识别单元被配置为能够量化并展示所述定位块与所述足跟托板或底板之间的相对位置。

10.根据权利要求9所述的足底力分布测量装置，其特征在于，所述锁紧机构包括螺栓，所述定位块上设有腰型孔，所述足跟测力模块或所述底板上设有螺纹孔，所述螺栓穿过所述腰型孔并与所述螺纹孔连接。