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专利号: 2021114345252
申请人: 苏州科技大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-05-14
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种碳布表面修饰金属有机框架衍生的钴酸镍纳米片阵列复合材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤,S1:将碳布放入硝酸和盐酸的混合溶液中浸泡,清洗后放入缓冲溶液中,加入多巴胺盐酸盐,反应后得到CC@PDA;

S2:将所述CC@PDA浸渍到可溶性钴盐溶液中,加入咪唑类配体溶液,反应得到CC@Co‑MOF;

S3:加入可溶性镍盐溶液,反应后煅烧得到CC@NiCo2O4;

S4:将所述CC@NiCo2O4材料放入NaBH4溶液中,反应得到所述碳布表面修饰钴酸镍纳米片阵列复合材料;

2

所述NaBH4溶液的浓度为0.1‑0.5mol/L,每1cm 碳布加入NaBH4溶液的量为1‑3mL,反应时间为2‑4小时。

2.如权利要求1所述的碳布表面修饰金属有机框架衍生的钴酸镍纳米片阵列复合材料的制备方法,其特征在于,所述硝酸和盐酸的混合溶液中,硝酸和盐酸的浓度均为10‑

30wt%,硝酸与盐酸的体积比为3‑6:1‑3。

3.如权利要求1所述的碳布表面修饰金属有机框架衍生的钴酸镍纳米片阵列复合材料2

的制备方法,其特征在于,所述步骤S1中,每1cm碳布加入多巴胺盐酸盐的量为5‑20mg。

4.如权利要求1‑3中任一项所述的碳布表面修饰钴酸镍纳米片阵列复合材料的制备方法,其特征在于,所述步骤S1中,浸泡时间为12‑24h;加入多巴胺盐酸盐反应的时间为3‑6h。

5.如权利要求1所述的碳布表面修饰金属有机框架衍生的钴酸镍纳米片阵列复合材料2

的制备方法,其特征在于,所述步骤S2中:可溶性钴盐溶液的浓度为50‑100mmol/L,每1cm碳布加入可溶性钴盐溶液的量为1.5‑6mL;咪唑类配体为二甲基咪唑和/或二甲基苯并咪2

唑,咪唑类配体溶液的浓度为0.3‑0.6mol/L,每1cm 碳布加入可溶性钴盐溶液的量为1.5‑

6mL。

6.如权利要求1所述的碳布表面修饰金属有机框架衍生的钴酸镍纳米片阵列复合材料2

的制备方法,其特征在于,所述步骤S3中,可溶性镍盐溶液的浓度为2‑5g/L,每1cm碳布加入可溶性镍盐溶液的量为5‑30mL。

7.如权利要求1所述的碳布表面修饰金属有机框架衍生的钴酸镍纳米片阵列复合材料的制备方法,其特征在于,所述步骤S3中,煅烧的温度为300‑500℃,时间为2‑4h。

8.一种权利要求1‑7中任一项所述的制备方法制得的碳布表面修饰金属有机框架衍生的钴酸镍纳米片阵列复合材料。