1.一种同轴式激光辅助微弧氧化装置，其特征在于，所述装置包括：光纤激光接口、扫描式微弧氧化喷头、电源、循环泵、收集槽；

所述扫描式微弧氧化喷头包括：光学透镜、透镜卡槽、电解液储存槽、光液分离管、连接板、电解液喷嘴；

所述光学透镜安装于电解液储存槽顶部，并由透镜卡槽固定密封；

所述连接板将电解液储存槽和电解液喷嘴连接，连接板上设有通道孔连通电解液储存槽和电解液喷嘴，连接板中心还设有光液分离管的定位孔，连接板的一端设有阴极连接环；

所述光液分离管垂直插入连接板中心的定位孔内；

所述扫描式微弧氧化喷头顶部设有固定卡槽，用于定位光纤激光接口；

所述电解液储存槽的上部设置电解液进水口，利用循环泵与收集槽形成闭合的电解液循环系统。

2.一种利用权利要求1所述装置进行同轴式激光辅助微弧氧化的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

(1)将待处理工件进行砂纸打磨抛光、清洗预处理之后，自然干燥备用；

(2)在收集槽中配置微弧氧化电解液，打开循环泵，使电解液从进水口流入并充满电解液储存槽，调整喷射流速在0.5～2mm/s之间，使电解液能够从喷嘴稳定流出喷射到工件表面，实现稳定的循环；

(3)将工件置于加工台上并与电源正极相连，调整喷嘴与工件的间距为6～10mm，喷嘴通过连接板与电源负极相连，将微弧氧化电源与激光器开关同时打开，进行同轴式激光辅助微弧氧化。

3.如权利要求2所述方法，其特征在于，步骤(2)中，微弧氧化电解液的组成为：15～

20g/L Na2SiO3、3～4g/L NaOH、3～4g/L Na2HPO4，溶剂为去离子水。

4.如权利要求2所述方法，其特征在于，步骤(3)中，激光功率100～150W，微弧氧化采用恒流模式，正向电流2～2.5A，正负电流比2：1，占空比20～30％，频率500～750Hz，电解液温度维持在20～25℃，反应时间设为3～5min。