1.一种克服水分子干扰的离子液体基印迹光催化纳米反应器的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：IL的合成：首先，将1,4‑丁烷磺酸内酯与N‑烯丙基咪唑混合搅拌，得到混合溶液A，加入乙醚A离心洗涤数次；随后，在离心洗涤后得到的固体沉淀物中加入H2SO4，室温下搅拌，得到混合溶液B，在混合溶液B中加入乙醚B进行搅拌洗涤，搅拌洗涤后混合溶液B出现分层，再将乙醚层去除，余下的混合物进行真空干燥得到最终样品，记为IL；

步骤2：首先将P25、步骤1制备的IL、盐酸左氧氟沙星依次加到去离子水中，室温下进行第一次搅拌；再加入N′N‑亚甲基双丙烯酰胺和2,2′‑偶氮二异庚腈进行第二次搅拌，混合均匀得到反应溶液，然后将反应溶液放入微波反应器中反应，反应后离心收集反应产物用甲醇反复洗涤数次；最后，经离心得到的样品在光照下洗脱，经真空干燥即得到最终样品，即为离子液体基印迹光催化纳米反应器。

2.根据权利要求1所述的克服水分子干扰的离子液体基印迹光催化纳米反应器的制备方法，其特征在于，步骤1中，所述的1,4‑丁烷磺酸内酯、1‑烯丙基‑1H‑咪唑和H2SO4的用量比为0.11mol：0.10mol：0.10mol。

3.根据权利要求1所述的克服水分子干扰的离子液体基印迹光催化纳米反应器的制备方法，其特征在于，步骤1中，所述混合搅拌以及在室温下搅拌的时间均为72h；所述洗涤的次数均为3次；所述混合溶液A与乙醚A的体积比为1:1‑3；所述混合溶液B与乙醚B的体积比为1:1‑3。

4.根据权利要求1所述的克服水分子干扰的离子液体基印迹光催化纳米反应器的制备方法，步骤2中，所述的P25、IL、盐酸左氧氟沙星和去离子水的用量比为0.3g：0.43g：0.21g:

50mL。

5.根据权利要求1所述的克服水分子干扰的离子液体基印迹光催化纳米反应器的制备方法，其特征在于，步骤2中，所述第一次搅拌的时间为4h，第二次搅拌的时间为0.5h。

6.根据权利要求1所述的克服水分子干扰的离子液体基印迹光催化纳米反应器的制备方法，其特征在于，步骤2中，所述N′N‑亚甲基双丙烯酰胺、2,2′‑偶氮二异庚腈和去离子水的用量比为1.54g:10mg:50mL。

7.根据权利要求1所述的克服水分子干扰的离子液体基印迹光催化纳米反应器的制备方法，步骤2中，所述洗脱具体是在250W氙灯下洗脱3h。

8.根据权利要求1所述的克服水分子干扰的离子液体基印迹光催化纳米反应器的制备方法，步骤2中，所述微波反应仪中的反应功率为600W，工作温度为60℃，工作时间为120分钟，搅拌速度为2000转/分钟。

9.根据权利要求1所述的克服水分子干扰的离子液体基印迹光催化纳米反应器的制备方法，步骤1～2中，所述真空干燥的温度均为30℃，烘干时间均为12h。

10.将权利要求1～9任一项所述制备方法得到的离子液体基印迹光催化纳米反应器用于选择性吸附和降解盐酸左氧氟沙星的用途。