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1.一种异位反应Cr 离子印迹光催化膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1：HTNW的合成；首先，将P25添加到NaOH溶液中，超声处理，以实现均匀分散，得到悬浮液，转移到聚四氟乙烯内衬高压釜中，反应后所得产物用HCl溶液和去离子水清洗至中性；洗涤后，通过真空干燥即可得到白色粉末，即为HTNW；

步骤2：IM‑CdS的合成；首先，将CdS分散在丙酮中，并在室温下超声处理，得到分散液标记为溶液A；然后，将K2Cr2O7溶解在丙酮和去离子水混合溶液中，再加入功能单体4‑乙烯基吡啶，搅拌条件下进行预聚合反应，反应后添加交联剂二甲基丙烯酸乙二醇酯和引发剂偶氮二异丁腈，得到的溶液标记为溶液B；

将溶液A和溶液B混合后进行微波聚合，聚合反应后，通过离心收集沉淀物，并分别用去6+

离子水和无水乙醇进行洗涤；随后再用NaOH溶液进行洗脱，直至无法检测到Cr 时停止洗脱；最后，使用去离子水清洗直到中性，经真空干燥得到最终产物，即为IM‑CdS；

步骤3：IM‑Cd/HT膜的合成；首先，将步骤(1)得到的HTNW和步骤(2)得到的IM‑CdS加入去离子水中，在室温下进行超声处理，得到混合溶液并在滤膜上真空过滤，待水分抽干后加入聚乙烯醇溶液继续抽滤；随后得到浅黄色膜，从滤膜上剥离，并通过真空干燥得到的产物即为IM‑Cd/HT膜。

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2.根据权利要求1所述的一种异位反应Cr 离子印迹光催化膜的制备方法，其特征在于，步骤1中，所述的NaOH溶液浓度为10mol/L；P25和NaOH溶液的用量比为0.5g：60mL；HCl溶液浓度为0.1mol/L。

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3.根据权利要求1所述的一种异位反应Cr 离子印迹光催化膜的制备方法，其特征在于，步骤1中，所述高压反应釜中反应的温度为180℃，反应的时间为48h。

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4.根据权利要求1所述的一种异位反应Cr 离子印迹光催化膜的制备方法，其特征在于，步骤2中，所述溶液A中CdS和丙酮的用量比为0.4g：30mL；溶液B中K2Cr2O7、丙酮、去离子水、4‑乙烯基吡啶、二甲基丙烯酸乙二醇酯和偶氮二异丁腈的用量比为0.194g：30mL：20mL：1.05mL：1.9mL：0.08g；溶液A和溶液B混合时的体积比为30mL：53mL；所述NaOH溶液的浓度为0.2mol/L。

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5.根据权利要求1所述的一种异位反应Cr 离子印迹光催化膜的制备方法，其特征在于，步骤2中，所述预聚合时搅拌转速为600rpm/min，反应的时间为1h。

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6.根据权利要求1所述的一种异位反应Cr 离子印迹光催化膜的制备方法，其特征在于，步骤2中，所述微波聚合反应的温度为70℃，功率为800W，反应的时间为2h；所述离心的转速为3500rpm/min，时间为5min。

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7.根据权利要求1所述的一种异位反应Cr 离子印迹光催化膜的制备方法，其特征在于，步骤3中，所述HTNW、IM‑CdS、去离子水和聚乙烯醇溶液的用量比为0.3g：0.15g：20mL：2mL；聚乙烯醇溶液浓度为0.5wt％。

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8.根据权利要求1所述的一种异位反应Cr 离子印迹光催化膜的制备方法，其特征在于，步骤3中，所述真空抽滤压力值为‑0.1bar；滤膜孔径为0.45μm。

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9.根据权利要求1所述的一种异位反应Cr 离子印迹光催化膜的制备方法，其特征在于，步骤1‑3中，所述超声处理的时间均为10min；所述真空干燥的温度均为60℃，烘干时间均为12h。

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10.根据权利要求1‑9任一项所述的方法制备的异位反应Cr 离子印迹光催化膜用于在6+

污染物中优先选择性还原Cr 并协同光催化降解四环素的用途。