1.一种用于制备氮化硼纳米片的研磨装置，其特征在于，包括物料输送结构、研磨结构和超声分散结构；所述物料输送结构将物料输送到研磨结构进行研磨，研磨结束后进入超声分散结构分散后获得制品。

2.根据权利要求1所述的用于制备氮化硼纳米片的研磨装置，其特征在于，所述研磨结构包括转轴(9)、带通孔圆盘(19)和研磨头(27)；所述转轴(9)可带动带孔圆盘(19)和研磨头(27)旋转；物料随带通孔圆盘(19)转动时，从带通孔圆盘(19)的通孔处进入研磨设备主体(26)，在研磨头(27)与研磨设备主体(26)配合处研磨。

3.根据权利要求1所述的用于制备氮化硼纳米片的研磨装置，其特征在于，所述研磨结构包括第一转轴、第二转轴、带通孔圆盘(19)和研磨头(27)；第一转轴和第二转轴分别带动带通孔圆盘(19)和研磨头(27)，第一转轴带动带通孔圆盘(19)转动时，物料从带通孔圆盘(19)的通孔处进入研磨设备主体(26)，第二转轴带动研磨头(27)与研磨设备主体(26)配合处研磨。

4.根据权利要求2或者3任一项所述的用于制备氮化硼纳米片的研磨装置，其特征在于，研磨头(27)为锥形结构，且研磨设备主体(26)上与研磨头(27)配合处开设有研磨槽(28)，研磨槽(28)由数个均布的凸起组成。

5.根据权利要求2或者3任一项所述的用于制备氮化硼纳米片的研磨装置，其特征在于，带通孔圆盘(19)的通孔处连通有物料输送管道(22)的输入端，物料输送管道(22)的输出端设置在研磨设备主体(26)处，物料经物料输送管道(22)进入研磨头(27)与研磨设备主体(26)配合处。

6.根据权利要求2所述的用于制备氮化硼纳米片的研磨装置，其特征在于，所述物料输送结构包括物料输送带(6)和物料存储平台(1)，物料存储平台(1)经物料输送带(6)输送到物料箱(8)内，物料箱(8)内设置有带通孔圆盘(19)，物料箱(8)通过物料箱固定支架(14)支撑，物料箱固定支架(14)安装在立柱(15)上，所述立柱(15)上设置有升降装置(16)，升降装置(16)可带动立柱(15)上下平移从而带动物料箱(8)内的带通孔圆盘(19)上下移动，使得带通孔圆盘(19)带动转轴(9)上下移动。

7.根据权利要求6所述的用于制备氮化硼纳米片的研磨装置，其特征在于，所述通过调节转轴(9)的上下位置可调节研磨头(27)与研磨设备主体(26)对物料的压紧力。

8.根据权利要求5所述的用于制备氮化硼纳米片的研磨装置，其特征在于，所述物料输送管道(22)上设置有定时开关，用来控制物料进入研磨头(27)处的时间。

9.根据权利要求2所述的用于制备氮化硼纳米片的研磨装置，其特征在于，研磨设备主体(26)上还开设有下料孔(24)，下料孔(24)上设置有定时开关，用来控制物料进入超声分散结构的时间。

10.根据权利要求1至3、6‑9任一项所述的用于制备氮化硼纳米片的研磨装置，其特征在于，所述超声分散结构包括超声波震荡仪(23)和超声波震荡仪传送带(25)；数个所述超声波震荡仪(23)设置在超声波震荡仪传送带(25)上，所述超声波震荡仪传送带(25)用来将已落入研磨后的物料的超声波震荡仪(23)依次传输到设定位置；超声波震荡仪(23)用来对研磨后的物料进行超声分散两小时，去离子水中静置八小时，从而获得氮化硼纳米片。