1.一种电弧离子源清洗基片装置，包括圆柱状的清洗本体，其特征在于，所述清洗本体内部设置有真空内胆，所述真空内胆下面设置有隔板，所述隔板将真空内胆内部分为上腔和下腔，所述上腔外侧壁固接有若干电弧离子源组件，且所述上腔内壁对应电弧离子源组件的位置均设置有清洗板，所述上腔上方可拆卸连接有密封封盖，所述上腔内部可拆卸连接有清洗支撑架，所述密封封盖上设置有进气管和出气管，所述下腔内设置有电源，在所述隔板上设有贯穿口，所述电源上设有电极引入口，所述清洗本体的上方铰接有清洗封盖。

2.根据权利要求1所述的一种电弧离子源清洗基片装置，其特征在于，所述真空内胆的外壁上还固接有气泵，所述气泵的输出端与进气管连接，所述气泵的输入端贯穿清洗封盖设置。

3.根据权利要求1所述的一种电弧离子源清洗基片装置，其特征在于，所述密封封盖内侧壁设有内螺纹，所述密封封盖的内部顶面设置有密封层，所述密封封盖与进气管之间、密封封盖与出气管之间均设置有密封垫。

4.根据权利要求3所述的一种电弧离子源清洗基片装置，其特征在于，所述上腔外侧壁设置有与密封封盖上内螺纹相匹配的螺纹段。

5.根据权利要求1所述的一种电弧离子源清洗基片装置，其特征在于，所述清洗板高度与清洗支撑架高度相适应。

6.根据权利要求1所述的一种电弧离子源清洗基片装置，其特征在于，所述电弧离子源组件和清洗板的数量均为三个。

7.根据权利要求6所述的一种电弧离子源清洗基片装置，其特征在于，所述上腔内部设有三个滑轨，且滑轨设置于清洗板之间，每个所述滑轨的下端设有挡板。

8.根据权利要求7所述的一种电弧离子源清洗基片装置，其特征在于，所述清洗支撑架包括底座、基片架、三根支撑杆和三个滑块，所述底座为三角形结构，所述基片架为中空三角形结构，所述底座的三个顶角位置均设置滑块，所述滑块与滑轨相匹配，所述底座与基片架之间设置三根支撑杆。