1.真空电弧离子镀膜源装置，包括支撑杆、阴极靶材、永磁组件、测距组件和驱动组件，其特征在于，所述支撑杆的一端固接阴极靶材，另一端固接驱动组件，所述永磁组件上支撑杆上滑动连接，所述测距组件包括超声波发生器和超声波接收器，所述测距组件用于测量永磁组件与阴极靶材之间的距离，所述超声波发生器固接于阴极靶材上，所述超声波接收器设置于永磁组件上，所述驱动组件驱动永磁组件进行靠近或远离阴极靶材移动。

2.根据权利要求1所述的真空电弧离子镀膜源装置，其特征在于，所述支撑杆外壁均匀嵌入设置有若干滚珠，所述滚珠与永磁组件滚动连接，且滚珠均贯穿设置于支撑杆外壁。

3.根据权利要求2所述的真空电弧离子镀膜源装置，其特征在于，所述支撑杆外壁呈环绕固接有与其为一体的若干个花键齿，所述滚珠位于花键齿之间。

4.根据权利要求3所述的真空电弧离子镀膜源装置，其特征在于，所述永磁组件包括滑套和永磁体，所述滑套套接在支撑杆外侧，所述永磁体安装于滑套上，且永磁体嵌设于滑套上，所述滑套与花键齿滑动连接。

5.根据权利要求4所述的真空电弧离子镀膜源装置，其特征在于，所述驱动组件包括支撑座、电机和伸缩杆，所述支撑座固接于支撑杆上，所述电机固接于支撑座上，所述伸缩杆的一端与电机的输出端连接，另一端与滑套连接。

6.根据权利要求1所述的真空电弧离子镀膜源装置，其特征在于，所述阴极靶材包括阴极靶座和靶材，所述阴极靶座固定于支撑杆上，所述靶材固定在阴极靶座上。