1.一种用于硅片的表面清洗装置，包括清洗槽(1)，其特征在于：所述清洗槽(1)的上侧安装有顶板(3)，所述顶板(3)的底部四角处均通过连杆(2)和清洗槽(1)的外壁固定连接；

所述顶板(3)的底部左侧安装有液压缸(5)，所述液压缸(5)的尾端固定连接有放置框(6)，所述顶板(3)的底部右侧固定安装有固定杆(8)，所述固定杆(8)的尾端固定连接有干燥箱(9)，所述顶板(3)的顶部插接有风机(7)。

2.根据权利要求1所述的一种用于硅片的表面清洗装置，其特征在于：所述顶板(3)的底部后侧开设有限位滑槽(10)，所述限位滑槽(10)的内腔左侧壁固定安装有丝杆电机(11)，所述丝杆电机(11)的传动轴外端固定连接有丝杆(12)，所述丝杆(12)的外端通过轴承和限位滑槽(10)的内壁连接，所述丝杆(12)的外壁套装有丝杆滑块(13)，所述丝杆滑块(13)插接于限位滑槽(10)的内腔，所述丝杆滑块(13)的底部和液压缸(5)的顶部固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种用于硅片的表面清洗装置，其特征在于：所述顶板(3)的顶部开设有通孔(14)，所述风机(7)插接于通孔(14)内且和通孔(14)内壁固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种用于硅片的表面清洗装置，其特征在于：所述干燥箱(9)的内壁固定安装有海绵垫(15)。

5.根据权利要求1所述的一种用于硅片的表面清洗装置，其特征在于：所述清洗槽(1)的外壁固定安装有超声波发生器(4)且超声波发生器(4)的发生端插接于清洗槽(1)内腔。