1.一种硅片表面清洗烘干装置，该装置包括储水罐、设置于所述储水罐上侧的清洗罐、设置于所述清洗罐上侧的顶盖、设置于所述顶盖上侧的烘干组件、设置于所述清洗罐内侧的清洗组件；其特征在于，所述储水罐和所述清洗罐左侧设有连接水管，所述连接水管末端设有水泵，所述储水罐前侧设有进水口，所述储水罐右侧设有出水口，所述出水口上侧设有排污口，所述储水罐内侧设有过滤网，所述排污口设置在所述过滤网上侧，所述清洗罐右侧设有出气管，所述出气管上侧设有出气罩。

2.根据权利要求1所述的一种硅片表面清洗烘干装置，其特征在于，所述烘干组件包括密封盖，所述密封盖下侧设有喷头，所述喷头下侧设有均匀分布的喷嘴。

3.根据权利要求2所述的一种硅片表面清洗烘干装置，其特征在于，所述密封盖上侧设有风机，所述风机向下延伸至所述喷头上侧，所述喷头上侧设有握杆。

4.根据权利要求3所述的一种硅片表面清洗烘干装置，其特征在于，所述清洗组件包括驱动电机，所述驱动电机的输出轴设有转盘，所述转盘上侧设有支撑柱。

5.根据权利要求4所述的一种硅片表面清洗烘干装置，其特征在于，所述支撑柱固定安装在所述喷头下侧，所述转盘和所述支撑柱外侧设有搅拌杆。

6.根据权利要求5所述的一种硅片表面清洗烘干装置，其特征在于，所述搅拌杆均匀分布在所述转盘和所述支撑柱外侧。

7.根据权利要求6所述的一种硅片表面清洗烘干装置，其特征在于，所述顶盖表面开设有凹槽，所述密封盖表面开设有与所述凹槽相对应的开口。