1.一种半导体精密模具用清理装置，其特征在于：包括防尘罩(1)；

所述防尘罩(1)上表面固定设置有把手(12)，所述防尘罩(1)右壁中部开设有排风口(8)，所述防尘罩(1)右外壁中部固定设置有排风机(7)，且排风机(7)与排风口(8)连通设置，所述排风机(7)的通管底部连通设置有储尘布袋(6)，所述防尘罩(1)后壁底部固定设置有电机(11)，所述电机(11)的传动轴底部固定设置有清理杆(5)，所述清理杆(5)底部外侧套设有套杆(14)，所述清理杆(5)前壁底部开设有若干组螺孔(13)，所述套杆(14)前壁顶部贯穿有螺丝(15)，且螺丝(15)与同侧的螺孔(13)旋接，所述套杆(14)底部固定设置有软毛刷(16)，所述防尘罩(1)下端面固定设置有环形气囊(4)，且环形气囊(4)为“回”型结构，所述环形气囊(4)左侧连通设置有单向阀(3)，所述防尘罩(1)左壁中部连通设置有进风管(2)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体精密模具用清理装置，其特征在于：所述把手(12)右侧固定设置有握把(10)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体精密模具用清理装置，其特征在于：所述进风管(2)内左侧设置有滤网。

4.根据权利要求1所述的一种半导体精密模具用清理装置，其特征在于：所述防尘罩(1)为可视玻璃材料制品。

5.根据权利要求1所述的一种半导体精密模具用清理装置，其特征在于：所述防尘罩(1)右外壁顶部固定设置有蓄电池(9)，且蓄电池(9)分别与电机(11)和排风机(7)电性连接。