1.一种用于熔融沉积模型的抛光和柔化处理装置，其特征在于，包括：壳体(1)，顶部设有开口、内部构造有处理室；

上盖(2)，可拆卸的连接在所述壳体(1)顶部且用于打开或关闭所述开口，所述上盖(2)有部分呈透明状，所述上盖(2)上设有一窗口，所述上盖(2)上连接有用于打开或关闭所述窗口的封盖(24)；

加热元件(3)，设置在所述壳体(1)底部且与所述壳体(1)导热接触；

控制器(4)，与所述加热元件(3)控制连接，用于调节所述加热元件(3)的加热温度。

2.根据权利要求1所述的用于熔融沉积模型的抛光和柔化处理装置，其特征在于：所述壳体(1)包括管状体(11)和蒸发皿(12)，所述管状体(11)为上下敞口结构，所述蒸发皿(12)连接在所述管状体(11)的下端部，所述管状体(11)下端部与所述蒸发皿(12)连接处的内外两侧分别设置有第一密封结构和第二密封结构。

3.根据权利要求2所述的用于熔融沉积模型的抛光和柔化处理装置，其特征在于：所述第一密封结构为一由PMMA材料制成的密封圈(13)。

4.根据权利要求2所述的用于熔融沉积模型的抛光和柔化处理装置，其特征在于：所述管状体(11)外周壁面与所述蒸发皿(12)内周壁面之间构造出一环状腔室，所述第二密封结构包括填充在所述环状腔室内的密封填料(14)、盖封在所述环状腔室顶部的压盖(15)。

5.根据权利要求2所述的用于熔融沉积模型的抛光和柔化处理装置，其特征在于：所述管状体(11)由PMMA材料制成，所述管状体(11)的内周壁面上复合有一层金属薄膜(16)。

6.根据权利要求2所述的用于熔融沉积模型的抛光和柔化处理装置，其特征在于：所述蒸发皿(12)底部设置有支撑组件，所述支撑组件包括底座(17)和散热外壳(18)，所述散热外壳(18)呈环状，所述散热外壳(18)的底部固定在所述底座(17)上、顶部边缘与所述蒸发皿(12)外边缘相支撑抵接，所述散热外壳(18)上设有周向布置的散热孔(181)，所述控制器(4)安装在所述底座(17)上。

7.根据权利要求1所述的用于熔融沉积模型的抛光和柔化处理装置，其特征在于：所述上盖(2)包括密封压环(21)、透明盖板(22)以及垫圈(23)，所述密封压环(21)卡接在所述壳体(1)顶部外缘且其顶端向上突出形成卡槽，所述透明盖板(22)嵌在所述卡槽内且将所述垫圈(23)压紧在所述透明盖板(22)与所述密封压环(21)之间。

8.根据权利要求7所述的用于熔融沉积模型的抛光和柔化处理装置，其特征在于：所述透明盖板(22)为玻璃板。

9.根据权利要求1所述的用于熔融沉积模型的抛光和柔化处理装置，其特征在于：所述封盖(24)通过一竖直向上延伸的轴(25)可转动的连接在所述上盖(2)上。

10.根据权利要求1所述的用于熔融沉积模型的抛光和柔化处理装置，其特征在于：所述壳体(1)内设置有用于支撑熔融沉积模型的料架(19)。