1.一种多孔高熵合金氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）放样：将清洗好的基体固定在挡板上，放入射频磁控溅射设备送样室进行抽真空，然后关闭送样室真空泵；

（2）预溅镀：对CoCrFeMnNi靶材和Al靶材分别进行预溅镀，清除靶材表面氧化物和污垢；

（3）送样：打开送样室与溅射腔之间的闸门，将步骤（1）中准备好的基体送到溅射腔中样品台，调节样品台旋转速度开始持续旋转；

（4）溅镀：在完成步骤（3）后，分别设置CoCrFeMnNi靶材和Al靶材的溅射电压、工作压力、溅射时间、溅射距离、高纯氩气流量和真空度，CoCrFeMnNi靶材和Al靶材同时开始溅射，溅射结束后，待腔体冷却后取出试样，得到高熵合金薄膜；

（5）脱合金：将步骤（4）获得的高熵合金薄膜在室温下浸泡在脱合金溶液中进行脱合金处理，得到多孔高熵合金薄膜；

（6）清洗、干燥：将步骤（5）脱合金处理后的多孔高熵合金薄膜分别浸泡在丙酮、乙醇和去离子水中依次进行超声清洗，然后，真空干燥；

（7）热处理：将步骤（6）干燥后的多孔高熵合金薄膜进行封管热处理，通入保护气体，热处理后随炉冷却，得到多孔高熵合金氧化物薄膜；

步骤（5）中所述脱合金溶液为质量浓度为1 10wt%的盐酸溶液，所述浸泡的时间为1~ ~

18h；

步骤（7）中所述保护气体为体积比为4:1的高纯氩气和氧气的混合气体，所述热处理的温度为950～1100℃，热处理的时间为5 20s。

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2.根据权利要求1所述的一种多孔高熵合金氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述基体为Si基体，清洗步骤为：依次在丙酮、乙醇和去离子水中进行超声清洗，每次清‑3洗的时间均为15 30min，超声频率均为100Hz；所述抽真空的真空度高于5×10 Torr。

~

3.根据权利要求1所述的一种多孔高熵合金氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（2）中所述CoCrFeMnNi靶材和Al靶材的纯度均为99.99%；

−7 

CoCrFeMnNi靶材和Al靶材预溅镀时，腔体真空度高于2×10 Torr、电压均为50 150V、~高纯氩气流量均为20 40sccm、工作压力为均3 10mTorr、溅射时间均为20 30min，溅射完成~ ~ ~后腔体温度冷却至20 30℃。

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4.根据权利要求1所述的一种多孔高熵合金氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（3）中所述旋转速度为100rpm。

5.根据权利要求1所述的一种多孔高熵合金氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，步骤−7（4）中所述CoCrFeMnNi靶材和Al靶材溅镀时的腔体真空度≥2×10  Torr，所述溅射电压为

80 200V、工作压力为3 10mTorr、溅射时间为30 60min、溅射距离为10cm、高纯氩气流量保~ ~ ~持在20 40sccm。

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6.根据权利要求1所述的一种多孔高熵合金氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（4）中所述腔体冷却的温度为20 30℃。

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7.根据权利要求1所述的一种多孔高熵合金氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（6）中多孔高熵合金薄膜依次在丙酮、乙醇和去离子水中超声清洗的时间为15 30min，超声~频率为30 50Hz；所述真空干燥的温度为50 80℃，时间为1 2h。

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8.一种如权利要求1 7任一项所述方法制备的多孔高熵合金氧化物薄膜。

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