1.一种双层高熵合金复合薄膜，其特征在于，所述复合薄膜的底层为铜层，表层为（CoCrFeMnNi)Xy，层间具有共格结构，X为非金属元素O或N，Co、Cr、Fe、Mn、Ni、X元素原子比为1:1:1:1:1:y，y=0.1 0.8；

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所述双层高熵合金复合薄膜的制备方法，包括如下步骤：（1）将基体固定在挡板上,放入射频磁控溅射设备送样室进行抽真空；

（2）靶材预溅镀：先打开CoCrFeMnNi靶材的遮挡板进行预溅镀，然后关闭CoCrFeMnNi靶材的遮挡板打开Cu靶材的遮挡板进行预溅镀；

（3）送样：打开送样室与溅射腔之间的闸门，将步骤（2）中准备好的CoCrFeMnNi靶材和Cu靶材送到溅射腔，然后调节两种靶材旋转速度持续转动；

（4）溅镀：先对Cu靶材先进行溅射并通入高纯氩气，Cu靶材溅射结束后关闭遮挡板，然后打开CoCrFeMnNi靶材的遮挡板开始溅射并通入高纯氩气和高纯氮气或高纯氧气的混合气体；

（5）冷却：溅射结束后关闭工作系统，腔体冷却至室温后，得到双层高熵合金复合薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种双层高熵合金复合薄膜，其特征在于，步骤（1）中所述基体为硅片基体，在基体使用前，分别放置在丙酮、乙醇和去离子水中依次进行超声清洗。

3.根据权利要求1所述的一种双层高熵合金复合薄膜，其特征在于，步骤（1）中所述真‑3空的真空度≤5×10 Torr。

4.根据权利要求1所述的一种双层高熵合金复合薄膜，其特征在于，步骤（2）中所述CoCrFeMnNi靶材为纯度99.99%的CoCrFeMnNi高熵合金；CoCrFeMnNi靶材和Cu靶材预溅镀时−7 的条件为：腔体真空度≤2×10 Torr，电压为50 100V，高纯氩气流量为20 40sccm,工作压~ ~力为3 10mTorr，溅射时间为20 30min，Cu预溅镀结束后腔体温度冷却至20 30℃。

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5.根据权利要求1所述的一种双层高熵合金复合薄膜，其特征在于，步骤（3）中所述靶材旋转速度为50‑100rpm。

6.根据权利要求1所述的一种双层高熵合金复合薄膜，其特征在于，步骤（4）中所述Cu−7 靶材溅射时，腔体真空度≤2×10 Torr，电压为100 200V，高纯氩气流量保持在20sccm，工~作压力为3mTorr，溅射时间为20min，沉积距离为10cm。

7.根据权利要求1所述的一种双层高熵合金复合薄膜，其特征在于，步骤（4）中所述−7 CoCrFeMnNi靶材溅射时，腔体真空度≤2×10 Torr，电压为100 200V，工作压力为3mTorr，~溅射时间为30min，沉积距离为10cm。

8.根据权利要求7所述的一种双层高熵合金复合薄膜，其特征在于，所述高纯氩气流量保持在20sccm，高纯氮气或高纯氧气的流量5 15sccm。

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9.一种权利要求1所述的双层高熵合金复合薄膜在柔性微机系统电阻器中的应用。