1.一种复合光学膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

S1：制备阻隔层，所述阻隔层至少包括第一无机层；

S2：制备多孔基板，所述多孔基板包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述多孔基板位于所述阻隔层的第一表面，所述多孔基板包括呈阵列排布的多个凹孔；

S3：制备无机纳米颗粒‑第一聚合物互穿网络，所述无机纳米颗粒通过表面改性剂与第一单体通过预聚合形成所述互穿网络；

S4：制备填充层，在无机纳米颗粒‑第一聚合物互穿网络中加入第二单体形成混合前驱体溶液，将所述混合前驱体溶液填充于所述多孔基板的凹孔内，通过终聚合形成所述填充层，所述填充层为具有吸湿性能的有机‑无机杂化聚合物透明凝胶材料，所述凝胶材料吸湿后膨胀而从第二表面突起，形成微透镜阵列。

2.如权利要求1所述的复合光学膜的制备方法，其特征在于，所述阻隔层包括依次层叠的所述第一无机层、第一有机层和第二无机层。

3.如权利要求2所述的复合光学膜的制备方法，其特征在于，所述第一有机层的材料为环氧树脂、丙烯酸酯树脂和聚氨酯丙烯酸酯树脂中的一种或多种，所述第一无机层和所述第二无机层的材料为氧化硅、氧化铝、氮化硅、氮化铝、碳氮化硅、氮氧化硅或碳氧化硅中的一种或多种。

4.如权利要求1所述的复合光学膜的制备方法，其特征在于，所述无机纳米颗粒为氧化锌、氧化硅、氧化铝中的一种或多种。

5.如权利要求4所述的复合光学膜的制备方法，其特征在于，所述表面改性剂为乙二醇、乙二酸、1,3‑丙二醇、羟基乙酸、巯基乙醇、胺基乙醇中的一种或多种。

6.如权利要求5所述的复合光学膜的制备方法，其特征在于，所述第一单体为N‑异丙基丙烯酰胺单体，所述第二单体为丙烯酸单体，其中丙烯酸单体与N‑异丙基丙烯酰胺单体的质量比为9:1 1:9。

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7.如权利要求1所述的复合光学膜的制备方法，其特征在于，对于所述步骤S2，进一步包括对所述多孔基板的第二表面进行氧等离子体处理的步骤，所述第二表面为远离所述阻隔层的一侧。

8.一种AMOLED显示面板，其特征在于，包括：显示基板、第一电极、第一传输层、发光层、第二传输层、第二电极和复合光学膜，所述复合光学膜为根据权利要求1‑7中的任意一项所述的制备方法制备得到。

9.如权利要求8所述的AMOLED显示面板，其特征在于，还包括微透镜阵列，所述微透镜阵列为所述凝胶材料吸收外界水汽后膨胀形成的突起结构。