1.一种石墨烯/氧化物复合光学薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：步骤一：氧化物薄膜的制备

（1）靶材和基体的预处理：以金属作为氧化物的金属元素溅射源，对其和基体石英片用丙酮进行预处理，再用高压氮气烘干处理；调节基体与靶材架之间的距离，保持在16-22mm；

分别从基片、靶材，及真空炉腔体中引出三个电极，基片和靶材均采用脉冲电源加热，且在镀膜过程中基体和靶材表面均形成一层等离子辉光放电区，由两层等离子辉光放电区交叠增强金属的成膜效率；

（2）金属氧化物膜的制备：向炉体充入氩气和氧气，使得炉体内气压达到5-30 Pa，将基体电压调压至200-300 V，使得基体进行5-10分钟预热和轰击；而后调节基体电压为300-

500 V，靶材电压调节至900-1000V，控制基体电流在1.0-2.5A，源极电流在0.5-2.0A，镀膜时间根据所需要厚度控制在10-30min；

步骤二：石墨烯/氧化物复合薄膜的制备

（1）靶材和基体的预处理：将步骤一中得到的氧化物薄膜样品作为基体置于基体台上，以还原氧化石墨烯纸作为靶材，置于溅射室内的靶材架上，调节基体台与靶材架之间的距离，保持在18-22 mm；重复上述金属氧化物膜的制备过程，依靠两层等离子辉光放电区交叠增强成膜效率；

（2）石墨烯/氧化物复合薄膜的制备：向炉体充入氩气，使得炉体内气压达到30-35Pa，将基体阴极电压调压至200-300 V，使得基体进行5-10分钟预热和轰击；而后调节基体电压为300-500 V，石墨烯靶材电压调节至750-850V，控制基体阴极电流在1.8-2.2A，源极电流在0.8-1.2A，待辉光及参数稳定后保温10-30min镀膜。

2.根据权利要求1所述的的制备方法，其特征在于，步骤一中氩气和氧气的体积比为5:

1-10:1。

3.根据权利要求1所述的的制备方法，其特征在于，步骤一中所述金属为单一或多元副族元素金属。

4.根据权利要求3所述的的制备方法，其特征在于，所述金属为锌，钛，钼的一种或多种。

5.根据权利要求4所述的的制备方法，其特征在于，所述金属为锌。