1.一种氰基修饰吡啶并咪唑类衍生物，其特征在于，具有如式(Ⅰ)所示的分子结构：其中R1为氢，R2为氰基；或R1为氰基，R2为氢。

2.根据权利要求1所述的氰基修饰吡啶并咪唑类衍生物，其特征在于，所述R1为氰基时，R2为氢时，氰基修饰吡啶并咪唑类衍生物结晶于正交晶系，空间群为P21/n，晶胞参数为β＝95.651(2)°；

或者所述R1为氢时，R2为氰基时，氰基修饰吡啶并咪唑类衍生物结晶于正交晶系，空间群为P21/c，晶胞参数为 β＝102.328(2)°。

3.权利要求1或2所述的氰基修饰吡啶并咪唑类衍生物的制备方法，其特征在于，将吡啶并咪唑类衍生物与10‑氢‑吩噁嗪通过Buchwald‑Hartwig交叉偶联反应制得式(Ⅰ)化合物；所述吡啶并咪唑类衍生物的结构式为

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述吡啶并咪唑类衍生物与10‑氢‑吩噁嗪的摩尔比为1∶1～2。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述Buchwald‑Hartwig交叉偶联反应在120～130℃下，反应12～15h。

6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述Buchwald‑Hartwig交叉偶联反应在pH值为10～14下进行。

7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述Buchwald‑Hartwig交叉偶联反应的催化剂为钯催化剂。

8.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述Buchwald‑Hartwig交叉偶联反应在惰性氛围中进行。

9.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，还包括将氰基修饰吡啶并咪唑类衍生物溶解于有机溶剂中，得饱和溶液，再加入正己烷，于20～30℃中析出氰基修饰吡啶并咪唑类衍生物晶体样品。

10.权利要求1或2所述的氰基修饰吡啶并咪唑类衍生物在有机发光材料中的应用。