1.一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩，其特征在于：包括防溅罩本体(30)；防溅罩本体(30)包括圆环柱体状的旋转支撑座(33)和上端开口设置的圆筒状的上支撑架(31)；研磨平台(10)位于上支撑架(31)的开口内；上支撑架(31)和研磨平台(10)两者的旋转中心轴共线；上支撑架(31)的上端面低于研磨平台(10)的上端面；上支撑架(31)的底面中心成型有供研磨平台(10)的旋转轴穿过的避让孔(310)；上支撑架(31)的底面上成型有同轴设置的圆环状的挡水环(311)；上支撑架(31)的内圆柱面上成型有内螺纹；旋转支撑座(33)的外圆柱面上成型有与上支撑架(31)的内螺纹配合的外螺纹；旋转支撑座(33)的内圆柱面下端成型有同轴设置的圆环状的下支撑环(331)；下支撑环(331)上固定有防溅罩(34)；防溅罩(34)由上部的圆环柱体状的缩口部(341)和下部的上窄下宽的漏斗状的下阻挡部(342)组成；下阻挡部(342)的上端开口的内径与缩口部(341)的内径相同；缩口部(341)的内径大于研磨平台(10)的直径；当旋转支撑座(33)处于最下端时，旋转支撑座(33)的上端面与研磨平台(10)的上端面平齐；

上支撑架(31)的底面上成型有同轴设置的圆环柱体状的下盛水部(32)；下盛水部(32)内成型有同轴设置的圆环柱体槽状的盛水槽(320)；盛水槽(320)的顶部成型有若干向上贯穿的圆周均匀分布的落水孔(321)；落水孔(321)位于挡水环(311)与上支撑架(31)的侧壁之间；盛水槽(320)的底部设置有若干圆周均匀分布的排水管(322)；

下支撑环(331)的底部设置有封闭单元(35)；封闭单元(35)包括圆环状的旋转连接环(354)；旋转连接环(354)同轴旋转设置在下支撑环(331)的底面上；旋转连接环(354)的底面上成型有若干圆周均匀分布的竖直连杆(351)；竖直连杆(351)竖直穿过上支撑架(31)的底部并且下端位于盛水槽(320)内；竖直连杆(351)上固定有水平连接板(352)；水平连接板(352)的上端面内侧端成型有与落水孔(321)配合的竖直堵杆(353)；当旋转支撑座(33)处于最下端时，竖直堵杆(353)脱离落水孔(321)并且落水孔(321)处于打开状态；当缩口部(341)高于研磨平台(10)时，竖直堵杆(353)位于相应侧的落水孔(321)内并且落水孔(321)处于关闭状态。

2.根据权利要求1所述的一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩，其特征在于：旋转支撑座(33)的外圆柱面上端成型有圆环状的驱动环(332)；驱动环(332)的上端面与旋转支撑座(33)的上端面平齐；驱动环(332)的厚度与旋转支撑座(33)的上端面和上支撑架(31)的上端面之间的高度差相同。

3.根据权利要求2所述的一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩，其特征在于：驱动环(332)的直径大于上支撑架(31)的外径。

4.根据权利要求1所述的一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩，其特征在于：挡水环(311)的横截面呈倒置的L型。