1.一种多晶硅铸锭用免喷涂坩埚的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：将氮化硅、醇系硅溶胶、陶瓷胶和纯水以一定的质量比配制成氮化硅涂层溶液；其中，所述氮化硅：醇系硅溶胶的质量比为1.5～2：1；所述氮化硅：陶瓷胶质量比为14～10：1；

且所述氮化硅占所述氮化硅涂层溶液质量的25％～50％，且所述氮化硅粒径D50为2.0～2.4μm、总金属杂质含量≤3ppm、且β相质量百分含量为50％～70％；且所述醇系硅溶胶含纳米SiO2颗粒质量分数20～25％、乙醇质量分数60～65％、纯水质量分数10～20％，且金属杂质含量≤1ppm；且S1所述陶瓷胶为质量分数3～8％、聚合度≥8000的聚乙烯醇水溶液；

S2：先将坩埚内表面刷涂一遍氮化硅涂层溶液然后烘干，随后冷却到室温后再重复上述操作刷涂、烘干一遍，烘干完成后，利用压缩空气将坩埚内表面浮尘去除完全，放入干燥剂，包装，即得。

2.根据权利要求1所述的免喷涂坩埚的制备方法，其特征在于，S2所述刷涂用氮化硅涂层溶液用量为：坩埚底部用量600～900g/个，且每个坩埚侧壁为360～450g/面。

3.根据权利要求1所述的免喷涂坩埚的制备方法，其特征在于，S2所述烘干温度为90～

100℃；且所述烘干时间为30～50min。