1.一种硅颗粒作为形核源高效坩埚的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1步骤包括：S11：将单晶高纯度石英砂：熔融高纯度石英砂：水以质量比为1:(1～2):(1～3)的比例加入球磨机，以金属氧化物为磨球材料，球磨16～20h，制备成粒径D50为6～8μm的石英砂浆料，且所述石英砂浆料的金属杂质含量≤10ppm；S12：将S11所得石英砂浆料与醇系硅溶胶以质量比为10:2～4进行混合、搅拌并均化6～8h后形成均化石英砂浆料，且所述均化石英砂浆料的金属杂质含量≤10ppm；S13：将所述均化石英砂浆料刷涂在所述坩埚内表面，形成高纯度石英砂涂层，且所述刷涂每个坩埚用均化石英砂浆料质量为600～

1200g；其中，所述单晶高纯度石英砂、熔融高纯度石英砂以及高纯度石英砂中Si O2质量分数均≥99.999％；

S2：在所述高纯度石英砂涂层表面制备氮化硅涂层，具体包括：S21：将氮化硅、陶瓷胶、纯水以质量比1:(1～2):1混合均匀，获得氮化硅混合液；S22：将所述氮化硅混合液涂刷在S13获得的高纯度石英砂涂层表面，然后在室温下静置6～8h，获得氮化硅涂层；

S3：在所述氮化硅涂层表面制备陶瓷胶涂层，且所述刷涂每个坩埚用陶瓷胶溶液质量为300～400g；

S4：在所述陶瓷胶涂层表面制备硅颗粒涂层，具体包括：在所述陶瓷胶层表面均匀喷涂一层粒度为30～80目、纯度为99.999％的硅颗粒，然后将所述坩埚在80～100℃下，干燥40～60min，形成硅颗粒层。

2.根据权利要求1所述的硅颗粒作为形核源高效坩埚的制备方法，其特征在于，步骤S1中，所述单晶高纯度石英砂、熔融高纯度石英砂的粒度均为50～200目。

3.根据权利要求1所述的硅颗粒作为形核源高效坩埚的制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述氮化硅粒径D50为2.1～2.3μm、总金属杂质含量≤5ppm、且β相质量百分含量为50％～60％。

4.根据权利要求1所述的硅颗粒作为形核源高效坩埚的制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述刷涂每个坩埚用氮化硅混合液质量为100～150g。

5.根据权利要求1所述的硅颗粒作为形核源高效坩埚的制备方法，其特征在于，步骤S2、S3中，所述陶瓷胶均为质量分数3～8％、聚合度≥8000的聚乙烯醇水溶液。

6.根据权利要求5所述的硅颗粒作为形核源高效坩埚的制备方法，其特征在于，所述硅颗粒用量为每个坩埚150～180g。