1.一种纳米多孔硅凸透镜组的制备方法，其特征在于，准备一电化学腐蚀用双槽，并配备两个圆形平板薄铂片作为左右两个电极，在双槽中心固定圆形硅片以将双槽分隔成两个独立的部分，并往双槽两个部分内放入不同浓度的腐蚀液，制备时，先采用正、负方波恒流接两个电极以对圆形硅片左右两面进行腐蚀形成多孔硅薄膜，然后，加大腐蚀电流以对圆形硅片的中间部分进行电抛光形成中空结构，形成中间空、左右两侧为多孔硅薄膜、且左右两侧薄膜在中空的外周有连接的一体化双层多孔硅薄膜，最后浸入氢氧化钠溶液中，以形成的多孔硅薄膜的中心轴为自旋转轴旋转一体化双层多孔硅薄膜，形成一体化的由多孔硅薄膜构成的左、右凸透镜组。

2.根据权利要求1所述的制备纳米多孔硅凸透镜组的方法，其特征在于，所述硅片是通过密封圈固定在双槽内的，密封圈外缘与双槽对应内壁相贴合以阻止双槽左右两侧的腐蚀液相连通，硅片外周均有部分嵌入到密封圈内侧；在整个腐蚀过程中，嵌入密封圈的硅片部分没有被腐蚀。

3.根据权利要求1所述的制备纳米多孔硅凸透镜组的方法，其特征在于，所述左、右凸透镜与硅衬底连接点的最小厚度控制在左、右凸透镜中心厚度的30‑80%。

4.根据权利要求1所述的制备纳米多孔硅凸透镜组的方法，其特征在于，在旋转一体化双层多孔硅时，是采用顺时针、逆时针交替的方式进行的。

5.根据权利要求1所述的制备纳米多孔硅凸透镜组的方法，其特征在于，以圆形的多孔硅薄膜的中心轴为自旋转轴自旋的平均角速度为（0.1   100）*2π/S、旋转的时间为1   ~ ~

20min。

6.根据权利要求1所述的制备纳米多孔硅凸透镜组的方法，其特征在于，顺、逆时针交替旋转圆柱形体多孔硅的频率为0.01   1Hz。

~