1.一种制备纳米多孔硅双凸透镜的方法，其特征在于，该方法是将常规双槽腐蚀时使用两个圆形平板薄铂片作为电极，且在两个平行电极之间放置圆形硅片，硅片中心轴线、两个圆形平板薄铂片中心轴线三者重合，硅片离左、右两个电极的距离相等，硅片将腐蚀液分隔成两个独立的部分；首先，使用大小相同的正、负方波恒流腐蚀电流对硅片进行电化学腐蚀形成圆柱形体多孔硅薄膜，一方面，在正常的正、负方波恒流腐蚀电流密度条件下，对硅片两个表面同时进行电化学腐蚀，由于使用的是大小相同的正、负方波 恒流 腐蚀电流，所以在硅片两个表面形成物理结构和光学特性完全相同的多孔硅薄膜，直到腐蚀全部完成，形成圆柱形的体多孔硅薄膜；其次，在圆柱形的体多孔硅薄膜完成后，将其浸入氢氧化钠溶液中，并以圆柱形的体多孔硅薄膜的中心轴为自旋转轴顺时针、逆时针交替旋转圆柱形多孔硅，由于离自旋转轴越远，多孔硅薄膜表面与氢氧化钠溶液反应越强烈，从而腐蚀掉的多孔硅材料越多，腐蚀越深，导致在多孔硅圆柱前、后表面形成由多孔硅材料构成的凸透镜。

2.根据权利要求1所述的制备纳米多孔硅双凸透镜的方法，其特征在于，以圆柱形的多孔硅薄膜的中心轴为自旋转轴自旋的平均角速度为（0 .1 100）×2π/S。

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3.根据权利要求2所述的制备纳米多孔硅双凸透镜的方法，其特征在于，顺、逆时针交替旋转圆柱形体多孔硅的交替频率为0.01 1Hz。

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4.根据权利要求2或3所述的制备纳米多孔硅双凸透镜的方法，其特征在于，氢氧化钠溶液的浓度为0.1 5%。

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