1.一种强化丸粒的制备方法，其特征在于：使用的粉末颗粒为球形铸钢丸，其粒径为

1mm，靶材为氮化钛合金；

具体工艺过程为：

（1）粉体放置与靶材安装

将待溅射铸铁丸粒放置于样品台上面，在样品台上放置挡板；将氮化钛靶材安装在靶位上，关闭真空室腔门；

（2）抽真空

打开机械泵对真空室抽真空至3Pa，打开真空抽气装置中的分子泵，对真空室抽真空至‑3

2.0×10  Pa；

（3）预溅射靶材

向真空室中充入氩气，至真空腔室内气压维持在0.5Pa，打开靶电源，控制溅射电压

350V，溅射电流0.7A，预溅射靶材15min；

（4）磁控溅射镀膜

移开样品台上的挡板，打开跳动电机的开关，粉体开始上下跳动，控制溅射时间为40 min，电机功率选择中档，实验后测得溅射镀膜的厚度为590nm；

（5）镀膜结束、取样

关闭溅射电源，关闭跳动电机，关闭流量计、分子泵和机械泵，向真空室内充入空气使真空室内压力等于大气压力，打开真空腔室，取出粉体，镀膜结束；

磁控溅射装置包括溅射靶位、样品台、冷却水系统、进气阀和放气阀，样品台包括有容置槽和底架，底架放置样品的一面由跳跃垫组成，其余五个面由框架组成，底架内部排布有多个弹簧，框架和跳跃垫之间放置多个支撑杆，以便跳跃垫在上方保持张紧状态，在向粉体颗粒正式镀膜之前，支撑杆及弹簧为松弛状态；在准备对粉体颗粒正式镀膜时，支撑杆及弹簧进行往复伸缩运动，粉体颗粒开始跳跃；

在位于溅射靶位正对面还设有挡板，冷却水系统放置于溅射靶位内部，样品台、挡板、溅射靶位平行放置，溅射时候，挡板放下，预溅射时候，挡板竖立以防止溅射到样品上。