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专利号: 2019104273091
申请人: 江苏大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-12-30
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种双头抹光机自适应平衡机构及其调节方法,双头抹光机自适应平衡机构主要包括水箱(1)、导轨(2)、丝杆支撑座(3)、调节丝杠(4)、传感器及控制器(5)、配重块(6)、联轴器(7)、步进电机(8)、燕尾型底架(13)、传动部件(14)、导轨支撑板(15)、传动轴(16)和水管(17),其特征在于:所述的导轨(2)包括导轨主体(2-1)与导轨侧板(2-2);所述的调节丝杠(4)靠近发动机一端通过联轴器(7)与步进电机(8)联接,其上设置有配重块(6)、两端设置有丝杆支撑座(3),配重块(6)在传感器及控制器(5)、步进电机(8)调节下使其机构实时自适应平衡;所述的燕尾型底架(13)的两端固定安装有两个抹光动力轴(11),抹光动力轴(11)的下方安装有抹光盘(12),抹光动力轴(11)的上方安装有挠性减震器(10);所述的挠性减震器(10)有两个,安装于双头抹光机自适应平衡机构的两端,其上方分别安装水箱(1)与发动机(9);所述的两个抹光盘(12)用于抹光地面并支撑抹光机机架;所述的传动轴(16)用于将发动机(9)的动力传输至抹光盘(12)进行抹光作业,并通过传动部件(14)将动力传输至另一个抹光盘(12)进行作业。

2.根据权利要求1所述的一种双头抹光机自适应平衡机构及其调节方法,其特征在于:

所述的导轨(2)包括导轨主体(2-1)与导轨侧板(2-2),导轨(2)的中间通过铰链与支撑板(15-2)的上端连接,两个挠性减震器(10)的上板(10-1)通过其内侧的螺栓固定安装于导轨(2)的两端。

3.根据权利要求1所述的一种双头抹光机自适应平衡机构及其调节方法,其特征在于:

所述的配重块(6)包括配重块主体(6-1)、配重块滑板(6-2),配重块主体(6-1)上有与调节丝杠(4)相匹配的螺纹,配重块滑板(6-2)与导轨侧板(2-2)的上部配合,使配重块(6)保持其工作时所需的稳定姿态沿调节丝杠(4)作纵向直线运动。

4.根据权利要求1所述的一种双头抹光机自适应平衡机构及其调节方法,其特征在于:

所述的挠性减震器(10)包括上板(10-1)、减震原件(10-2)、下板(10-3),挠性减震原件(10-

2)的材料可为橡胶、弹簧等。

5.根据权利要求1所述的一种双头抹光机自适应平衡机构及其调节方法,其特征在于:

所述的导轨支撑板(15)包括限位板I(15-1)、支撑板(15-2)、限位板II(15-3),两限位板通过螺栓与燕尾型底架(13)连接、可关于支撑板(15-2)对称布置,支撑板(15-2)的上端通过铰链与导轨连接、下端通过螺栓与燕尾型底架(13)连接,限位板能确保安装于挠性减震器上的水箱和发动机在安全高度范围内调节,提高双头抹光机自适应平衡机构的安全可靠性。

6.根据权利要求1所述的一种双头抹光机自适应平衡机构及其调节方法,其特征在于:

所述的挠性减震器(10)和燕尾型支架(13)能减弱发动机、传动部件及其他外部的振动,进一步提高抹光作业的质量和效率。

7.根据权利要求1所述的一种双头抹光机自适应平衡机构及其调节方法,其特征在于:

所述配重块(6)的实时调节步进电机可由液压马达等其他动力代替。

8.根据权利要求1所述的一种双头抹光机自适应平衡机构及其调节方法,其特征在于:

所述双头抹光机自适应平衡机构的平衡信息的检测传感器可为陀螺仪、水位传感器或水压传感器等,即可通过陀螺仪测量水平倾角,可通过水箱水位传感器检测水位变化,也可通过压力传感器检测水箱压力变化来获得。

9.根据权利要求1所述的一种双头抹光机自适应平衡机构及其调节方法,其特征在于:

所述丝杆支撑座(3)成对使用。

10.根据权利要求1所述的一种双头抹光机自适应平衡机构及其调节方法,其自适应平衡调节过程如下:a)双头抹光机工作时,随着水桶内水的持续使用,水桶一端的重量逐渐减轻;

b)双头抹光机一端的重量变化导致导轨(2)发生倾斜,传感器及控制器(5)将检测到的抹光机机构角度变化信号送给控制器处理并发出信息控制步进电机,通过联轴器驱动滚珠丝杠调节配重块(6)位置,使双头抹光机机构进行自适应平衡调节;

c)随着配重块(6)的位置移动,双头抹光机机构的倾斜角,即导轨(2)的倾斜角度逐渐减少,直到导轨(2)呈水平位置时,传感器及控制器(5)使步进电机(8)停止,完成双头抹光机机构的自适应平衡调节。