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专利号: 2020220427388
申请人: 山东沐东真空科技有限公司
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
更新日期:2026-05-14
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种冷壁法CVD沉积装置,包括底座(2)、沉积管(4)、马达(6)和弹性块(12),其特征在于:所述底座(2)的底表面固定安装有沉积箱(3),沉积箱(3)的顶端内部贯穿安装有沉积管(4),所述沉积管(4)的内部中间固定安装有轴座(10),轴座(10)中间设有框架(9),且框架(9)通过轴杆(8)转动安装在轴座(10)的中间,所述框架(9)的内部开设有嵌口(11),嵌口(11)的内部一侧开设有第二凹口(15),嵌口(11)的内部另一侧设有第一凹口(14),第一凹口(14)开设在抵板(13)的内部。

2.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积装置,其特征在于:所述抵板(13)的固定安装在弹性块(12)的一端,弹性块(12)的另一端固定安装在嵌口(11)的内部一侧。

3.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积装置,其特征在于:所述弹性块(12)由内柱插入套柱内组成,并且在套柱内部固定安装有弹簧。

4.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积装置,其特征在于:所述底座(2)的底表面设有万向轮(1),且万向轮(1)设有四个,四个万向轮(1)呈矩形分布。

5.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积装置,其特征在于:所述轴杆(8)的一端套有皮带(7)的一端,皮带(7)的另一端套在马达(6)的输出端,且马达(6)固定安装在沉积箱(3)的顶端内部。

6.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积装置,其特征在于:所述马达(6)和沉积管(4)之间固定安装有隔板(5),隔板(5)的内部填充有玻璃纤维。