1.一种基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法，其特征在于：所述方法步骤如下：

(1)以正硅酸四乙酯(TEOS)为原料，聚丙烯酸(PAA)为模板剂，2-异丙氧基乙醇(IPGE)和甲醇(MeOH)共同作为溶剂，氨水(NH4OH)为催化剂，以模板法制备得到结构规整的中空SiO2纳米粒子溶胶；

将上述溶胶于通风橱敞口搅拌，当溶液的pH降至7，停止搅拌，将溶胶的重量百分比调节为1.5wt％后，记为待镀膜溶胶；

(2)采用提拉浸渍法在经过处理的透光率为92％的玻璃基片上镀制双面减反射薄膜，常温下干燥后于100℃烘箱中固化1h，再于550℃的马弗炉中煅烧2h，得到可见光波段平均透光率98％以上，硬度达到4H以上的减反射薄膜。

2.如权利要求1所述的基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法，其特征在于：步骤(1)所述的PAA、NH4OH、混合溶剂和MeOH的体积比为0.1：6：120：1-2，其中，混合溶剂中2-异丙氧基乙醇与甲醇的体积比为7：3；PAA的Mw＝5000。

3.如权利要求1所述的基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法，其特征在于：步骤(1)所述的中空SiO2纳米粒子溶胶的制备方法为：室温下，将聚丙烯酸溶于氨水中，在搅拌下缓慢加入溶剂，移置30℃水浴锅剧烈搅拌10分钟后分5次逐滴加入正硅酸四乙酯，时间间隔为10min，将混合溶液密封剧烈搅拌10h后，即可得到50-60nm的中空二氧化硅纳米粒子溶胶。

4.如权利要求1所述的基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法，其特征在于：步骤(2)所述的玻璃基片的处理方法为：把2×10cm的玻璃基片以先后次序放到质量分数为10％的盐酸和质量分数为10％的NaOH溶液中分别超声处理70min，超声波功率为60W，再用无水乙醇和去离子水超声洗涤，晾干，得到经过处理的透光率为92％的玻璃基片。

5.如权利要求1所述的基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法，其特征在于：步骤(2)所述的镀制减反射薄膜的具体方法为：将经过处理的玻璃基片浸入到步骤(1)制得的待镀膜溶胶中，浸渍360s后，于提拉机上以4000μm/s的提拉速度镀膜，经干燥固化，煅烧后得到减反射膜。